A SYSTEM FOR CLEANING A SUBSTRATE SUPPORT, A METHOD OF REMOVING MATTER FROM A SUBSTRATE SUPPORT, AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS

A system for cleaning a substrate support comprising a plurality of projections extending in a first direction each with a terminal surface arranged to be in contact with the substrate, the system comprising: a treatment tool arranged for relative movement in a second direction orthogonal to the first direction and a third direction orthogonal to the first direction and the second direction over the terminal surfaces of the projections thereby to remove matter from the substrate support; a controller adapted to control the treatment tool dependent upon a position in the second and third directions of the treatment tool relative to the substrate support such that the removal amount from each of the plurality of projections is maintained substantially constant from one projection to another. L'invention concerne un système de nettoyage d'un support de substrat comprenant une pluralité de saillies s'étendant dans une première direction, chaque saillie comportant une surface terminale agencée de manière à être en contact avec le substrat. Le système comprend : un outil de traitement conçu pour un déplacement relatif dans une deuxième direction orthogonale à la première direction et dans une troisième direction orthogonale aux première et deuxième directions sur les surfaces terminales des saillies de façon à éliminer ainsi la matière à partir du support de substrat ; et un dispositif de commande conçu pour commander l'outil de traitement en fonction d'une position dans les deuxième et troisième directions de l'outil de traitement par rapport au support de substrat de telle sorte que la quantité d'élimination de chaque saillie de la pluralité de saillies est maintenue sensiblement constante d'une saillie à une autre.