SYSTEM, METHOD AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT FOR SYSTEMATIC AND STOCHASTIC CHARACTERIZATION OF PATTERN DEFECTS IDENTIFIED FROM A FABRICATED COMPONENT

A system, method, and computer program product are provided for systematic and stochastic characterization of pattern defects identified from a fabricated component. In use, a plurality of pattern defects detected from a fabricated component are identified. Additionally, attributes of each of the pattern defects are analyzed, based on predefined criteria. Further, a first set of pattern defects of the plurality of pattern defects are determined, from the analysis, to be systematic pattern defects, and a second set of pattern defects of the plurality of pattern defects are determined, from the analysis, to be stochastic pattern defects. Moreover, a first action is performed for the determined systematic pattern defects and a second action is performed for the determined stochastic pattern defects. La présente invention concerne un système, un procédé et un produit-programme d'ordinateur permettant une caractérisation systématique et stochastique de défauts de motif identifiés à partir d'un composant fabriqué. Lors de l'utilisation, une pluralité de défauts de motif détectés à partir d'un composant fabriqué sont identifiés. De plus, des attributs de chacun des défauts de motif sont analysés sur la base de critères prédéfinis. En outre, un premier ensemble de défauts de motif de la pluralité de défauts de motif sont déterminés, à partir de l'analyse, comme étant des défauts de motif systématiques et un second ensemble de défauts de motif de la pluralité de défauts de motif sont déterminés, à partir de l'analyse, comme étant des défauts de motif stochastiques. En outre, une première action est effectuée pour les défauts de motif systématiques déterminés et une seconde action est effectuée pour les défauts de motif stochastiques déterminés.