LITHOGRAPHIC SYSTEM, EUV RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC SCANNING APPARATUS AND CONTROL SYSTEM
A lithographic system (100) comprises an EUV radiation source for generating EUV radiation; and a lithographic scanning apparatus that uses the EUV radiation for illuminating a pattern to image the pattern onto a substrate; and control system (280). The EUV radiation source comprises a sensing syste...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | NOORDMAN, Oscar VAN GORKOM, Ramon GANG, Tian |
| description | A lithographic system (100) comprises an EUV radiation source for generating EUV radiation; and a lithographic scanning apparatus that uses the EUV radiation for illuminating a pattern to image the pattern onto a substrate; and control system (280). The EUV radiation source comprises a sensing system (270) for providing a sensing signal (272) representative of a spatial intensity distribution of the EUV radiation. The control system is operative to determine a quantity representative of a far-field intensity distribution of the EUV radiation based on the sensing signal and to determine a control signal (282) for control of at least one of the illuminating and the generating, based on the determined quantity representative of the far-field intensity distribution.
La présente invention concerne un système lithographique (100) qui comprend : une source de rayonnement EUV permettant de générer un rayonnement EUV ; un appareil de balayage lithographique utilisant le rayonnement EUV qui sert à éclairer un motif pour imager le motif sur un substrat ; et un système de commande (280). La source de rayonnement EUV comporte un système de détection (270) permettant d'émettre un signal de détection (272) représentatif d'une répartition spatiale de l'intensité du rayonnement EUV. Le système de commande est destiné à déterminer une quantité représentative d'une répartition de l'intensité en champ lointain du rayonnement EUV sur la base du signal de détection et à déterminer un signal de commande (282) pour la commande de l'éclairage et/ou de la génération, sur la base de la quantité déterminée représentative de la répartition de l'intensité en champ lointain. |
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La présente invention concerne un système lithographique (100) qui comprend : une source de rayonnement EUV permettant de générer un rayonnement EUV ; un appareil de balayage lithographique utilisant le rayonnement EUV qui sert à éclairer un motif pour imager le motif sur un substrat ; et un système de commande (280). La source de rayonnement EUV comporte un système de détection (270) permettant d'émettre un signal de détection (272) représentatif d'une répartition spatiale de l'intensité du rayonnement EUV. Le système de commande est destiné à déterminer une quantité représentative d'une répartition de l'intensité en champ lointain du rayonnement EUV sur la base du signal de détection et à déterminer un signal de commande (282) pour la commande de l'éclairage et/ou de la génération, sur la base de la quantité déterminée représentative de la répartition de l'intensité en champ lointain.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; COLORIMETRY ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT ; MEASURING ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; RADIATION PYROMETRY ; TESTING ; X-RAY TECHNIQUE</subject><creationdate>2018</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20180927&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2018172012A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76516</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20180927&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2018172012A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NOORDMAN, Oscar</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN GORKOM, Ramon</creatorcontrib><creatorcontrib>GANG, Tian</creatorcontrib><title>LITHOGRAPHIC SYSTEM, EUV RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC SCANNING APPARATUS AND CONTROL SYSTEM</title><description>A lithographic system (100) comprises an EUV radiation source for generating EUV radiation; and a lithographic scanning apparatus that uses the EUV radiation for illuminating a pattern to image the pattern onto a substrate; and control system (280). The EUV radiation source comprises a sensing system (270) for providing a sensing signal (272) representative of a spatial intensity distribution of the EUV radiation. The control system is operative to determine a quantity representative of a far-field intensity distribution of the EUV radiation based on the sensing signal and to determine a control signal (282) for control of at least one of the illuminating and the generating, based on the determined quantity representative of the far-field intensity distribution.
La présente invention concerne un système lithographique (100) qui comprend : une source de rayonnement EUV permettant de générer un rayonnement EUV ; un appareil de balayage lithographique utilisant le rayonnement EUV qui sert à éclairer un motif pour imager le motif sur un substrat ; et un système de commande (280). La source de rayonnement EUV comporte un système de détection (270) permettant d'émettre un signal de détection (272) représentatif d'une répartition spatiale de l'intensité du rayonnement EUV. Le système de commande est destiné à déterminer une quantité représentative d'une répartition de l'intensité en champ lointain du rayonnement EUV sur la base du signal de détection et à déterminer un signal de commande (282) pour la commande de l'éclairage et/ou de la génération, sur la base de la quantité déterminée représentative de la répartition de l'intensité en champ lointain.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>COLORIMETRY</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT</subject><subject>MEASURING</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>RADIATION PYROMETRY</subject><subject>TESTING</subject><subject>X-RAY TECHNIQUE</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2018</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIj18Qzx8HcPcgzw8HRWCI4MDnH11VFwDQ1TCHJ08XQM8fT3Uwj2Dw1ydtVRQFXq7Ojn5-nnruAYEOAY5BgSGqzg6Oei4OzvFxLk7wM1iYeBNS0xpziVF0pzMyi7uYY4e-imFuTHpxYXJCan5qWWxIf7GxkYWhiaA0kjR0Nj4lQBAOJtM9Q</recordid><startdate>20180927</startdate><enddate>20180927</enddate><creator>NOORDMAN, Oscar</creator><creator>VAN GORKOM, Ramon</creator><creator>GANG, Tian</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20180927</creationdate><title>LITHOGRAPHIC SYSTEM, EUV RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC SCANNING APPARATUS AND CONTROL SYSTEM</title><author>NOORDMAN, Oscar ; VAN GORKOM, Ramon ; GANG, Tian</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2018172012A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2018</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>COLORIMETRY</topic><topic>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT</topic><topic>MEASURING</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>RADIATION PYROMETRY</topic><topic>TESTING</topic><topic>X-RAY TECHNIQUE</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NOORDMAN, Oscar</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN GORKOM, Ramon</creatorcontrib><creatorcontrib>GANG, Tian</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NOORDMAN, Oscar</au><au>VAN GORKOM, Ramon</au><au>GANG, Tian</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>LITHOGRAPHIC SYSTEM, EUV RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC SCANNING APPARATUS AND CONTROL SYSTEM</title><date>2018-09-27</date><risdate>2018</risdate><abstract>A lithographic system (100) comprises an EUV radiation source for generating EUV radiation; and a lithographic scanning apparatus that uses the EUV radiation for illuminating a pattern to image the pattern onto a substrate; and control system (280). The EUV radiation source comprises a sensing system (270) for providing a sensing signal (272) representative of a spatial intensity distribution of the EUV radiation. The control system is operative to determine a quantity representative of a far-field intensity distribution of the EUV radiation based on the sensing signal and to determine a control signal (282) for control of at least one of the illuminating and the generating, based on the determined quantity representative of the far-field intensity distribution.
La présente invention concerne un système lithographique (100) qui comprend : une source de rayonnement EUV permettant de générer un rayonnement EUV ; un appareil de balayage lithographique utilisant le rayonnement EUV qui sert à éclairer un motif pour imager le motif sur un substrat ; et un système de commande (280). La source de rayonnement EUV comporte un système de détection (270) permettant d'émettre un signal de détection (272) représentatif d'une répartition spatiale de l'intensité du rayonnement EUV. Le système de commande est destiné à déterminer une quantité représentative d'une répartition de l'intensité en champ lointain du rayonnement EUV sur la base du signal de détection et à déterminer un signal de commande (282) pour la commande de l'éclairage et/ou de la génération, sur la base de la quantité déterminée représentative de la répartition de l'intensité en champ lointain.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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