MULTIPLE TRIGGER PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHOD

The present disclosure relates to novel multiple trigger negative working photoresist compositions and processes. The processes involve removing acid-labile protecting groups from crosslinking functionalities in a first step and crosslinking the crosslinking functionality with an acid sensitive crosslinker in a second step. The incorporation of a multiple trigger pathway in the resist catalytic chain increases the chemical gradient in areas receiving a low dose of irradiation, effectively acting as a built in dose depend quencher- analog and thus enhancing chemical gradient and thus resolution, resolution blur and exposure latitude. The photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. La présente invention concerne de nouvelles compositions de photorésines négatives à déclenchement multiple et des procédés associés. Les procédés consistent à éliminer des groupes protecteurs labiles acides de fonctionnalités de réticulation dans une première étape et à réticuler la fonctionnalité de réticulation avec un agent de réticulation sensible à l'acide dans une seconde étape. L'incorporation d'une voie à déclenchement multiple dans la chaîne catalytique de la photorésine accroît le gradient chimique dans les zones recevant une faible dose de rayons, agissant ainsi efficacement en tant qu'analogue d'extinction dépendant de la dose intégré et améliorant ainsi le gradient chimique et donc, la résolution, le flou de résolution et la latitude d'exposition. Les compositions de photorésine et les procédés selon l'invention conviennent idéalement au traitement de motifs fins à l'aide, par exemple, de rayons ultraviolets, de rayons au-delà de l'ultraviolet extrême, de rayons X et de rayons de particules chargées.