EVALUATING QUALITY OF A PRODUCT SUCH AS A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
An evaluation device (10) may be provided for evaluating quality of a semiconductor substrate manufactured by a semiconductor substrate manufacturing apparatus (40). The evaluation device (10) may comprising: a receiving unit (100) configured to receive an image of the semiconductor substrate, the i...
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Format: | Patent |
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creator | SUGAHARA, Hiroshi ANDO, Tanichi |
description | An evaluation device (10) may be provided for evaluating quality of a semiconductor substrate manufactured by a semiconductor substrate manufacturing apparatus (40). The evaluation device (10) may comprising: a receiving unit (100) configured to receive an image of the semiconductor substrate, the image being captured by an imaging device (50) provided on the semiconductor substrate manufacturing apparatus (40); a determination unit (102) configured to determine, using a neural network (1020), at least one value representative of a probability of a machine learning device (70) outputting an erroneous output for the image of the semiconductor substrate, the machine learning device (70) being configured to: (i) receive the image of the semiconductor substrate, (ii) perform computation using the received image, and (iii) output information indicating the quality of the semiconductor substrate based on a result of the computation; and an output unit (104) configured to output an output based on the at least one value representative of the probability, wherein the neural network (1020) has been trained using: images of manufactured semiconductor substrates; and information indicating, for each one of the images of the manufactured semiconductor substrates, a level of erroneousness for an output from the machine learning device (70) for said one of the images of the manufactured semiconductor substrates.
Un dispositif (10) d'évaluation peut être réalisé pour évaluer la qualité d'un substrat semi-conducteur fabriqué par un appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs. Le dispositif (10) d'évaluation peut comporter: une unité (100) de réception configurée pour recevoir une image du substrat semi-conducteur, l'image étant capturée par un dispositif (50) d'imagerie installé sur l'appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs; une unité (102) de détermination configurée pour déterminer, à l'aide d'un réseau neuronal (1020), au moins une valeur représentative d'une probabilité qu'un dispositif (70) d'apprentissage automatique délivre une sortie erronée pour l'image du substrat semi-conducteur, le dispositif (70) d'apprentissage automatique étant configuré pour: (i) recevoir l'image du substrat semi-conducteur, (ii) effectuer un calcul en utilisant l'image reçue, et (iii) délivrer des informations indiquant la qualité du substrat semi-conducteur d'après un résultat du calcul; et une unité (104) de sortie configurée pour délivrer une sortie ba |
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Un dispositif (10) d'évaluation peut être réalisé pour évaluer la qualité d'un substrat semi-conducteur fabriqué par un appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs. Le dispositif (10) d'évaluation peut comporter: une unité (100) de réception configurée pour recevoir une image du substrat semi-conducteur, l'image étant capturée par un dispositif (50) d'imagerie installé sur l'appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs; une unité (102) de détermination configurée pour déterminer, à l'aide d'un réseau neuronal (1020), au moins une valeur représentative d'une probabilité qu'un dispositif (70) d'apprentissage automatique délivre une sortie erronée pour l'image du substrat semi-conducteur, le dispositif (70) d'apprentissage automatique étant configuré pour: (i) recevoir l'image du substrat semi-conducteur, (ii) effectuer un calcul en utilisant l'image reçue, et (iii) délivrer des informations indiquant la qualité du substrat semi-conducteur d'après un résultat du calcul; et une unité (104) de sortie configurée pour délivrer une sortie basée sur la ou les valeurs représentatives de la probabilité, le réseau neuronal (1020) ayant été entraîné en utilisant: des images de substrats semi-conducteurs fabriqués; et des informations indiquant, pour chacune des images des substrats semi-conducteurs fabriqués, un niveau d'erreur relatif à une sortie issue du dispositif (70) d'apprentissage automatique pour ladite image parmi les images des substrats semi-conducteurs fabriqués.</description><language>eng ; fre</language><subject>CALCULATING ; COMPUTING ; COUNTING ; PHYSICS</subject><creationdate>2018</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20180823&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2018150210A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20180823&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2018150210A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SUGAHARA, Hiroshi</creatorcontrib><creatorcontrib>ANDO, Tanichi</creatorcontrib><title>EVALUATING QUALITY OF A PRODUCT SUCH AS A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE</title><description>An evaluation device (10) may be provided for evaluating quality of a semiconductor substrate manufactured by a semiconductor substrate manufacturing apparatus (40). The evaluation device (10) may comprising: a receiving unit (100) configured to receive an image of the semiconductor substrate, the image being captured by an imaging device (50) provided on the semiconductor substrate manufacturing apparatus (40); a determination unit (102) configured to determine, using a neural network (1020), at least one value representative of a probability of a machine learning device (70) outputting an erroneous output for the image of the semiconductor substrate, the machine learning device (70) being configured to: (i) receive the image of the semiconductor substrate, (ii) perform computation using the received image, and (iii) output information indicating the quality of the semiconductor substrate based on a result of the computation; and an output unit (104) configured to output an output based on the at least one value representative of the probability, wherein the neural network (1020) has been trained using: images of manufactured semiconductor substrates; and information indicating, for each one of the images of the manufactured semiconductor substrates, a level of erroneousness for an output from the machine learning device (70) for said one of the images of the manufactured semiconductor substrates.
Un dispositif (10) d'évaluation peut être réalisé pour évaluer la qualité d'un substrat semi-conducteur fabriqué par un appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs. Le dispositif (10) d'évaluation peut comporter: une unité (100) de réception configurée pour recevoir une image du substrat semi-conducteur, l'image étant capturée par un dispositif (50) d'imagerie installé sur l'appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs; une unité (102) de détermination configurée pour déterminer, à l'aide d'un réseau neuronal (1020), au moins une valeur représentative d'une probabilité qu'un dispositif (70) d'apprentissage automatique délivre une sortie erronée pour l'image du substrat semi-conducteur, le dispositif (70) d'apprentissage automatique étant configuré pour: (i) recevoir l'image du substrat semi-conducteur, (ii) effectuer un calcul en utilisant l'image reçue, et (iii) délivrer des informations indiquant la qualité du substrat semi-conducteur d'après un résultat du calcul; et une unité (104) de sortie configurée pour délivrer une sortie basée sur la ou les valeurs représentatives de la probabilité, le réseau neuronal (1020) ayant été entraîné en utilisant: des images de substrats semi-conducteurs fabriqués; et des informations indiquant, pour chacune des images des substrats semi-conducteurs fabriqués, un niveau d'erreur relatif à une sortie issue du dispositif (70) d'apprentissage automatique pour ladite image parmi les images des substrats semi-conducteurs fabriqués.</description><subject>CALCULATING</subject><subject>COMPUTING</subject><subject>COUNTING</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2018</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHB0DXP0CXUM8fRzVwgMdfTxDIlU8HdTcFQICPJ3CXUOUQgOdfZQcAwGigS7-no6-_uBRP2DgOJOwSFBjiGuPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDQwtDUwMjQwNHQmDhVAITLK9Q</recordid><startdate>20180823</startdate><enddate>20180823</enddate><creator>SUGAHARA, Hiroshi</creator><creator>ANDO, Tanichi</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20180823</creationdate><title>EVALUATING QUALITY OF A PRODUCT SUCH AS A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE</title><author>SUGAHARA, Hiroshi ; ANDO, Tanichi</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2018150210A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2018</creationdate><topic>CALCULATING</topic><topic>COMPUTING</topic><topic>COUNTING</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SUGAHARA, Hiroshi</creatorcontrib><creatorcontrib>ANDO, Tanichi</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SUGAHARA, Hiroshi</au><au>ANDO, Tanichi</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>EVALUATING QUALITY OF A PRODUCT SUCH AS A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE</title><date>2018-08-23</date><risdate>2018</risdate><abstract>An evaluation device (10) may be provided for evaluating quality of a semiconductor substrate manufactured by a semiconductor substrate manufacturing apparatus (40). The evaluation device (10) may comprising: a receiving unit (100) configured to receive an image of the semiconductor substrate, the image being captured by an imaging device (50) provided on the semiconductor substrate manufacturing apparatus (40); a determination unit (102) configured to determine, using a neural network (1020), at least one value representative of a probability of a machine learning device (70) outputting an erroneous output for the image of the semiconductor substrate, the machine learning device (70) being configured to: (i) receive the image of the semiconductor substrate, (ii) perform computation using the received image, and (iii) output information indicating the quality of the semiconductor substrate based on a result of the computation; and an output unit (104) configured to output an output based on the at least one value representative of the probability, wherein the neural network (1020) has been trained using: images of manufactured semiconductor substrates; and information indicating, for each one of the images of the manufactured semiconductor substrates, a level of erroneousness for an output from the machine learning device (70) for said one of the images of the manufactured semiconductor substrates.
Un dispositif (10) d'évaluation peut être réalisé pour évaluer la qualité d'un substrat semi-conducteur fabriqué par un appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs. Le dispositif (10) d'évaluation peut comporter: une unité (100) de réception configurée pour recevoir une image du substrat semi-conducteur, l'image étant capturée par un dispositif (50) d'imagerie installé sur l'appareil (40) de fabrication de substrats semi-conducteurs; une unité (102) de détermination configurée pour déterminer, à l'aide d'un réseau neuronal (1020), au moins une valeur représentative d'une probabilité qu'un dispositif (70) d'apprentissage automatique délivre une sortie erronée pour l'image du substrat semi-conducteur, le dispositif (70) d'apprentissage automatique étant configuré pour: (i) recevoir l'image du substrat semi-conducteur, (ii) effectuer un calcul en utilisant l'image reçue, et (iii) délivrer des informations indiquant la qualité du substrat semi-conducteur d'après un résultat du calcul; et une unité (104) de sortie configurée pour délivrer une sortie basée sur la ou les valeurs représentatives de la probabilité, le réseau neuronal (1020) ayant été entraîné en utilisant: des images de substrats semi-conducteurs fabriqués; et des informations indiquant, pour chacune des images des substrats semi-conducteurs fabriqués, un niveau d'erreur relatif à une sortie issue du dispositif (70) d'apprentissage automatique pour ladite image parmi les images des substrats semi-conducteurs fabriqués.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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