METHOD FOR ESTABLISHING ELECTRICAL CONTACT OF A SEMICONDUCTOR LAYER AND SEMICONDUCTOR COMPONENT HAVING ELECTRICAL CONTACT

Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Kontaktierung einer Halbleiterschicht (2) angegeben, umfassend die Schritte: a) Bereitstellen der Halbleiterschicht; b) Ausbilden einer Mehrzahl von Kontaktstäben (3) auf der Halbleiterschicht; c) Ausbilden einer Füllschicht (4) auf den Kontakt...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SOMMERFELD, Jana, BEHRINGER, Martin Rudolf, HOLLAND, Brendan, VOM DORP, Sabine
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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