PRE-COATED SHIELD FOR USE IN VHF-RF PVD CHAMBERS

Implementations of the present disclosure relate to an improved shield for use in a processing chamber. In one implementation, the shield includes a hollow body having a cylindrical shape that is substantially symmetric about a central axis of the body, and a coating layer formed on an inner surface of the body. The coating layer is formed the same material as a sputtering target used in the processing chamber. The shield advantageously reduces particle contamination in films deposited using RF-PVD by reducing arcing between the shield and the sputtering target. Arcing is reduced by the presence of a coating layer on the interior surfaces of the shield. La présente invention concerne, selon des modes de réalisation, une protection améliorée destinée à être utilisée dans une chambre de traitement. Dans un mode de réalisation, la protection comprend un corps creux présentant une forme cylindrique qui est sensiblement symétrique autour d'un axe central du corps, et une couche de revêtement formée sur une surface intérieure du corps. La couche de revêtement est formée du même matériau qu'une cible de pulvérisation utilisée dans la chambre de traitement. La protection réduit avantageusement la contamination par des particules dans des films déposés par RF-PVD en réduisant la formation d'arc entre la protection et la cible de pulvérisation. La formation d'arc est réduite par la présence d'une couche de revêtement sur les surfaces intérieures de la protection.