SYSTEMS AND METHODS TO AVOID INSTABILITY CONDITIONS IN A SOURCE PLASMA CHAMBER

In LPP EUV systems, sinusoidal oscillations or instabilities can occur m the generated EUV energy. This is avoided by detecting when the LPP EUV system is approaching such instability and adjusting the LPP EUV system by moving the laser beam of the LPP EUV sysiem. Detection is done by determining when the generated EUV energy is at or above a primary threshold. Adjusting the LPP EUV system by moving the laser beam is done for a fixed period of time, until a subsequently generated EUV energy is below the primary threshold, until a subsequently generated EUV energy is below the primary threshold for a fixed period of time, or until a subsequently generated EUV energy is at or below a secondary threshold below the primary threshold. Dans les systèmes LPP EUV, des oscillations sinusoïdales ou des instabilités peuvent se produire dans l'énergie EUV générée. Ceci est évité par la détection du moment où le système LPP EUV approche une telle instabilité et en réglant le système LPP EUV en déplaçant le faisceau laser du système LPP EUV. La détection est effectuée en déterminant le moment où l'énergie EUV générée se trouve au niveau ou au-dessus d'un seuil primaire. Le réglage du système LPP EUV en déplaçant le faisceau laser est effectué sur une durée fixe de temps, jusqu'à ce qu'une énergie EUV générée par la suite se situe en-dessous du seuil primaire, jusqu'à ce qu'une énergie EUV générée par la suite se situe en-dessous du seuil primaire sur une durée fixe de temps, ou jusqu'à ce qu'une énergie EUV générée par la suite se situe au niveau ou en-dessous d'un seuil secondaire inférieur au seuil primaire.