LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC PROJECTION METHOD
A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a support to support a patterning device, a substrate table to hold a substrate; and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The support is...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | PAARHUIS, Bart, Dinand VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier ONVLEE, Johannes VAN DE RUIT, Kevin KRAMER, Pieter, Jacob BROUWER, Cornelis, Melchior |
| description | A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a support to support a patterning device, a substrate table to hold a substrate; and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The support is provided with a transparent layer to protect the pattering device. The apparatus further comprises a transparent layer deformation-determining device to determine a deformation profile of the transparent layer, the deformation profile of the transparent layer expressing a deformation of the transparent layer during a scanning movement of the lithographic apparatus, a compensator device which is configured to control at least one of the projection system, the substrate table and the support in response to the deformation profile of the transparent layer to compensate for the deformation of the transparent layer during the scanning movement of the apparatus.
La présente invention porte sur un appareil lithographique qui comprend un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement, un support pour soutenir un dispositif de formation de motifs, une table de substrat pour maintenir un substrat ; et un système de projection pour projeter le faisceau de rayonnement à motifs sur une partie cible du substrat. Le support comporte une couche transparente pour protéger le dispositif de formation de motifs. L'appareil comprend en outre un dispositif de détermination de déformation de couche transparente pour déterminer un profil de déformation de la couche transparente, le profil de déformation de la couche transparente exprimant une déformation de la couche transparente pendant un déplacement de balayage de l'appareil lithographique, un dispositif compensateur qui est configuré pour commander au moins l'un du système de projection, de la table de substrat et du support en réponse au profil de déformation de la couche transparente pour compenser la déformation de la couche transparente pendant le déplacement de balayage de l'appareil. |
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La présente invention porte sur un appareil lithographique qui comprend un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement, un support pour soutenir un dispositif de formation de motifs, une table de substrat pour maintenir un substrat ; et un système de projection pour projeter le faisceau de rayonnement à motifs sur une partie cible du substrat. Le support comporte une couche transparente pour protéger le dispositif de formation de motifs. L'appareil comprend en outre un dispositif de détermination de déformation de couche transparente pour déterminer un profil de déformation de la couche transparente, le profil de déformation de la couche transparente exprimant une déformation de la couche transparente pendant un déplacement de balayage de l'appareil lithographique, un dispositif compensateur qui est configuré pour commander au moins l'un du système de projection, de la table de substrat et du support en réponse au profil de déformation de la couche transparente pour compenser la déformation de la couche transparente pendant le déplacement de balayage de l'appareil.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161027&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016169727A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161027&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016169727A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>PAARHUIS, Bart, Dinand</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier</creatorcontrib><creatorcontrib>ONVLEE, Johannes</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DE RUIT, Kevin</creatorcontrib><creatorcontrib>KRAMER, Pieter, Jacob</creatorcontrib><creatorcontrib>BROUWER, Cornelis, Melchior</creatorcontrib><title>LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC PROJECTION METHOD</title><description>A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a support to support a patterning device, a substrate table to hold a substrate; and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The support is provided with a transparent layer to protect the pattering device. The apparatus further comprises a transparent layer deformation-determining device to determine a deformation profile of the transparent layer, the deformation profile of the transparent layer expressing a deformation of the transparent layer during a scanning movement of the lithographic apparatus, a compensator device which is configured to control at least one of the projection system, the substrate table and the support in response to the deformation profile of the transparent layer to compensate for the deformation of the transparent layer during the scanning movement of the apparatus.
La présente invention porte sur un appareil lithographique qui comprend un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement, un support pour soutenir un dispositif de formation de motifs, une table de substrat pour maintenir un substrat ; et un système de projection pour projeter le faisceau de rayonnement à motifs sur une partie cible du substrat. Le support comporte une couche transparente pour protéger le dispositif de formation de motifs. L'appareil comprend en outre un dispositif de détermination de déformation de couche transparente pour déterminer un profil de déformation de la couche transparente, le profil de déformation de la couche transparente exprimant une déformation de la couche transparente pendant un déplacement de balayage de l'appareil lithographique, un dispositif compensateur qui est configuré pour commander au moins l'un du système de projection, de la table de substrat et du support en réponse au profil de déformation de la couche transparente pour compenser la déformation de la couche transparente pendant le déplacement de balayage de l'appareil.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING ANGLES</subject><subject>MEASURING AREAS</subject><subject>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</subject><subject>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLD08Qzx8HcPcgzw8HRWcAwIcAxyDAkNVnD0c1FAkQoI8vdydQ7x9PdT8HUFirvwMLCmJeYUp_JCaW4GZTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4cH8jA0MzQzNLcyNzR0Nj4lQBAFH5KgA</recordid><startdate>20161027</startdate><enddate>20161027</enddate><creator>PAARHUIS, Bart, Dinand</creator><creator>VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier</creator><creator>ONVLEE, Johannes</creator><creator>VAN DE RUIT, Kevin</creator><creator>KRAMER, Pieter, Jacob</creator><creator>BROUWER, Cornelis, Melchior</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20161027</creationdate><title>LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC PROJECTION METHOD</title><author>PAARHUIS, Bart, Dinand ; VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier ; ONVLEE, Johannes ; VAN DE RUIT, Kevin ; KRAMER, Pieter, Jacob ; BROUWER, Cornelis, Melchior</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2016169727A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2016</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MEASURING</topic><topic>MEASURING ANGLES</topic><topic>MEASURING AREAS</topic><topic>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</topic><topic>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>PAARHUIS, Bart, Dinand</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier</creatorcontrib><creatorcontrib>ONVLEE, Johannes</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DE RUIT, Kevin</creatorcontrib><creatorcontrib>KRAMER, Pieter, Jacob</creatorcontrib><creatorcontrib>BROUWER, Cornelis, Melchior</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>PAARHUIS, Bart, Dinand</au><au>VAN DAMME, Jean-Philippe, Xavier</au><au>ONVLEE, Johannes</au><au>VAN DE RUIT, Kevin</au><au>KRAMER, Pieter, Jacob</au><au>BROUWER, Cornelis, Melchior</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC PROJECTION METHOD</title><date>2016-10-27</date><risdate>2016</risdate><abstract>A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a support to support a patterning device, a substrate table to hold a substrate; and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The support is provided with a transparent layer to protect the pattering device. The apparatus further comprises a transparent layer deformation-determining device to determine a deformation profile of the transparent layer, the deformation profile of the transparent layer expressing a deformation of the transparent layer during a scanning movement of the lithographic apparatus, a compensator device which is configured to control at least one of the projection system, the substrate table and the support in response to the deformation profile of the transparent layer to compensate for the deformation of the transparent layer during the scanning movement of the apparatus.
La présente invention porte sur un appareil lithographique qui comprend un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement, un support pour soutenir un dispositif de formation de motifs, une table de substrat pour maintenir un substrat ; et un système de projection pour projeter le faisceau de rayonnement à motifs sur une partie cible du substrat. Le support comporte une couche transparente pour protéger le dispositif de formation de motifs. L'appareil comprend en outre un dispositif de détermination de déformation de couche transparente pour déterminer un profil de déformation de la couche transparente, le profil de déformation de la couche transparente exprimant une déformation de la couche transparente pendant un déplacement de balayage de l'appareil lithographique, un dispositif compensateur qui est configuré pour commander au moins l'un du système de projection, de la table de substrat et du support en réponse au profil de déformation de la couche transparente pour compenser la déformation de la couche transparente pendant le déplacement de balayage de l'appareil.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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