METHOD AND APPARATUS FOR RETICLE OPTIMIZATION
A method includes determining topographic information of a substrate for use in a lithographic imaging system, determining or estimating, based on the topographic information, imaging error information for a plurality of points in an image field of the lithographic imaging system, adapting a design...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | WERKMAN, Roy DEPRE, Laurent, Michel, Marcel PRENTICE, Christopher TEL, Wim, Tjibbo STAALS, Frank WILDENBERG, Jochem, Sebastiaan BELTMAN, Johannes, Marcus, Maria MOS, Everhardus, Cornelis JOSEN, Marinus |
| description | A method includes determining topographic information of a substrate for use in a lithographic imaging system, determining or estimating, based on the topographic information, imaging error information for a plurality of points in an image field of the lithographic imaging system, adapting a design for a patterning device based on the imaging error information. In an embodiment, a plurality of locations for metrology targets is optimized based on imaging error information for a plurality of points in an image field of a lithographic imaging system, wherein the optimizing involves minimizing a cost function that describes the imaging error information. In an embodiment, locations are weighted based on differences in imaging requirements across the image field.
Selon la présente invention, un procédé consiste à déterminer des informations topographiques d'un substrat destiné à être utilisé dans un système d'imagerie lithographique, à déterminer ou évaluer, sur la base des informations topographiques, des informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image du système d'imagerie lithographique, et à adapter une conception pour un dispositif de modélisation sur la base des informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, une pluralité d'emplacements pour des cibles de métrologie sont optimisés sur la base d'informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image d'un système d'imagerie lithographique, l'optimisation impliquant de réduire au minimum une fonction de coût qui décrit les informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, des emplacements sont pondérés sur la base de différences d'exigences d'imagerie dans le champ d'image. |
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Selon la présente invention, un procédé consiste à déterminer des informations topographiques d'un substrat destiné à être utilisé dans un système d'imagerie lithographique, à déterminer ou évaluer, sur la base des informations topographiques, des informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image du système d'imagerie lithographique, et à adapter une conception pour un dispositif de modélisation sur la base des informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, une pluralité d'emplacements pour des cibles de métrologie sont optimisés sur la base d'informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image d'un système d'imagerie lithographique, l'optimisation impliquant de réduire au minimum une fonction de coût qui décrit les informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, des emplacements sont pondérés sur la base de différences d'exigences d'imagerie dans le champ d'image.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160818&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016128190A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160818&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016128190A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>WERKMAN, Roy</creatorcontrib><creatorcontrib>DEPRE, Laurent, Michel, Marcel</creatorcontrib><creatorcontrib>PRENTICE, Christopher</creatorcontrib><creatorcontrib>TEL, Wim, Tjibbo</creatorcontrib><creatorcontrib>STAALS, Frank</creatorcontrib><creatorcontrib>WILDENBERG, Jochem, Sebastiaan</creatorcontrib><creatorcontrib>BELTMAN, Johannes, Marcus, Maria</creatorcontrib><creatorcontrib>MOS, Everhardus, Cornelis</creatorcontrib><creatorcontrib>JOSEN, Marinus</creatorcontrib><title>METHOD AND APPARATUS FOR RETICLE OPTIMIZATION</title><description>A method includes determining topographic information of a substrate for use in a lithographic imaging system, determining or estimating, based on the topographic information, imaging error information for a plurality of points in an image field of the lithographic imaging system, adapting a design for a patterning device based on the imaging error information. In an embodiment, a plurality of locations for metrology targets is optimized based on imaging error information for a plurality of points in an image field of a lithographic imaging system, wherein the optimizing involves minimizing a cost function that describes the imaging error information. In an embodiment, locations are weighted based on differences in imaging requirements across the image field.
Selon la présente invention, un procédé consiste à déterminer des informations topographiques d'un substrat destiné à être utilisé dans un système d'imagerie lithographique, à déterminer ou évaluer, sur la base des informations topographiques, des informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image du système d'imagerie lithographique, et à adapter une conception pour un dispositif de modélisation sur la base des informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, une pluralité d'emplacements pour des cibles de métrologie sont optimisés sur la base d'informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image d'un système d'imagerie lithographique, l'optimisation impliquant de réduire au minimum une fonction de coût qui décrit les informations d'erreur d'imagerie. 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Selon la présente invention, un procédé consiste à déterminer des informations topographiques d'un substrat destiné à être utilisé dans un système d'imagerie lithographique, à déterminer ou évaluer, sur la base des informations topographiques, des informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image du système d'imagerie lithographique, et à adapter une conception pour un dispositif de modélisation sur la base des informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, une pluralité d'emplacements pour des cibles de métrologie sont optimisés sur la base d'informations d'erreur d'imagerie pour une pluralité de points dans un champ d'image d'un système d'imagerie lithographique, l'optimisation impliquant de réduire au minimum une fonction de coût qui décrit les informations d'erreur d'imagerie. Dans un mode de réalisation, des emplacements sont pondérés sur la base de différences d'exigences d'imagerie dans le champ d'image.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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