METHOD OF DETECTING AN ARC OCCURRING DURING THE POWER SUPPLY OF A PLASMA PROCESS, CONTROL UNIT FOR A PLASMA POWER SUPPLY, AND PLASMA POWER SUPPLY

A plasma power supply (10) for supplying a plasma process in a plasma chamber (30) with a power comprises: a. a DC-Source (15); b. an output signal generator (16) connected to the DC source (15); c. a first signal sequence measurement device (20) for measuring a signal sequence present between the DC source (15) and the output signal generator (16); d. a second signal sequence measurement device (18, 19) for measuring a signal sequence present at the output of the output signal generator (16); e. a control unit (14), which is connected to the first and second signal sequence measurement devices (18, 19, 20). L'invention porte sur une alimentation électrique de plasma (10), destinée à fournir de l'énergie à un traitement par plasma dans une chambre à plasma (30), qui comprend : a. une source de courant continu (CC) (15) ; b. un générateur de signal de sortie (16) connecté à la source CC (15) ; c. un premier dispositif de mesure de séquence de signaux (20) pour mesurer une séquence de signaux présente entre la source CC (15) et le générateur de signal de sortie (16) ; d. un second dispositif de mesure de séquence de signaux (18, 19) pour mesurer une séquence de signaux présente au niveau de la sortie du générateur de signal de sortie (16) ; e. une unité de commande (14), qui est connectée aux premier et second dispositifs de mesure de séquence de signaux (18, 19, 20).