WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR

Water treatment and valve control systems and apparatuses, and methods of using the same, are disclosed. In some examples, the apparatuses, systems, and methods include use of a rotary position sensor and one or more rotatable elements configured to, when moving from an initial rotational position t...

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Hauptverfasser: DOWNS, JAMES J, SIELAFF, DARYL D, KAJPUST, ANDREW J
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator DOWNS, JAMES J
SIELAFF, DARYL D
KAJPUST, ANDREW J
description Water treatment and valve control systems and apparatuses, and methods of using the same, are disclosed. In some examples, the apparatuses, systems, and methods include use of a rotary position sensor and one or more rotatable elements configured to, when moving from an initial rotational position to subsequent rotational positions, move one or more element of a valve assembly. In various examples of the apparatuses, systems, and methods, the rotatable element rotates directly from one rotational position to another rotational position. In certain examples, the rotary position sensor measures an electrical resistance value to detect the rotational position of the rotatable element. L'invention concerne des systèmes et appareils de commande de clapet et de traitement de l'eau, ainsi que leurs procédés d'utilisation. Selon certains exemples, les appareils, systèmes et procédés comprennent l'utilisation d'un capteur de position rotatif et d'un ou de plusieurs éléments rotatifs conçus, lorsqu'ils se déplacent d'une position de rotation initiale dans des positions de rotation suivantes, pour déplacer un ou plusieurs éléments d'un ensemble clapet. Selon divers exemples des appareils, systèmes et procédés, l'élément rotatif tourne directement d'une première position de rotation à une autre position de rotation. Selon certains exemples, le capteur de position rotatif mesure une valeur de résistance électrique pour détecter la position de rotation de l'élément rotatif.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2016004339A2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2016004339A2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2016004339A23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHAIdwxxDVIICXJ1DPF19QtRCHP0CXNVcPb3Cwny91EIjgwOcfVVCPcM8VAI8g9xDIpUCPAP9gzx9PdTCHb1C_YP4mFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgaGZgYGJsbGlo5GxsSpAgClLiw4</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR</title><source>esp@cenet</source><creator>DOWNS, JAMES J ; SIELAFF, DARYL D ; KAJPUST, ANDREW J</creator><creatorcontrib>DOWNS, JAMES J ; SIELAFF, DARYL D ; KAJPUST, ANDREW J</creatorcontrib><description>Water treatment and valve control systems and apparatuses, and methods of using the same, are disclosed. In some examples, the apparatuses, systems, and methods include use of a rotary position sensor and one or more rotatable elements configured to, when moving from an initial rotational position to subsequent rotational positions, move one or more element of a valve assembly. In various examples of the apparatuses, systems, and methods, the rotatable element rotates directly from one rotational position to another rotational position. In certain examples, the rotary position sensor measures an electrical resistance value to detect the rotational position of the rotatable element. L'invention concerne des systèmes et appareils de commande de clapet et de traitement de l'eau, ainsi que leurs procédés d'utilisation. Selon certains exemples, les appareils, systèmes et procédés comprennent l'utilisation d'un capteur de position rotatif et d'un ou de plusieurs éléments rotatifs conçus, lorsqu'ils se déplacent d'une position de rotation initiale dans des positions de rotation suivantes, pour déplacer un ou plusieurs éléments d'un ensemble clapet. Selon divers exemples des appareils, systèmes et procédés, l'élément rotatif tourne directement d'une première position de rotation à une autre position de rotation. Selon certains exemples, le capteur de position rotatif mesure une valeur de résistance électrique pour détecter la position de rotation de l'élément rotatif.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMISTRY ; METALLURGY ; TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20160107&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2016004339A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20160107&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2016004339A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>DOWNS, JAMES J</creatorcontrib><creatorcontrib>SIELAFF, DARYL D</creatorcontrib><creatorcontrib>KAJPUST, ANDREW J</creatorcontrib><title>WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR</title><description>Water treatment and valve control systems and apparatuses, and methods of using the same, are disclosed. In some examples, the apparatuses, systems, and methods include use of a rotary position sensor and one or more rotatable elements configured to, when moving from an initial rotational position to subsequent rotational positions, move one or more element of a valve assembly. In various examples of the apparatuses, systems, and methods, the rotatable element rotates directly from one rotational position to another rotational position. In certain examples, the rotary position sensor measures an electrical resistance value to detect the rotational position of the rotatable element. L'invention concerne des systèmes et appareils de commande de clapet et de traitement de l'eau, ainsi que leurs procédés d'utilisation. Selon certains exemples, les appareils, systèmes et procédés comprennent l'utilisation d'un capteur de position rotatif et d'un ou de plusieurs éléments rotatifs conçus, lorsqu'ils se déplacent d'une position de rotation initiale dans des positions de rotation suivantes, pour déplacer un ou plusieurs éléments d'un ensemble clapet. Selon divers exemples des appareils, systèmes et procédés, l'élément rotatif tourne directement d'une première position de rotation à une autre position de rotation. Selon certains exemples, le capteur de position rotatif mesure une valeur de résistance électrique pour détecter la position de rotation de l'élément rotatif.</description><subject>CHEMISTRY</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHAIdwxxDVIICXJ1DPF19QtRCHP0CXNVcPb3Cwny91EIjgwOcfVVCPcM8VAI8g9xDIpUCPAP9gzx9PdTCHb1C_YP4mFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgaGZgYGJsbGlo5GxsSpAgClLiw4</recordid><startdate>20160107</startdate><enddate>20160107</enddate><creator>DOWNS, JAMES J</creator><creator>SIELAFF, DARYL D</creator><creator>KAJPUST, ANDREW J</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20160107</creationdate><title>WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR</title><author>DOWNS, JAMES J ; SIELAFF, DARYL D ; KAJPUST, ANDREW J</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2016004339A23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2016</creationdate><topic>CHEMISTRY</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>DOWNS, JAMES J</creatorcontrib><creatorcontrib>SIELAFF, DARYL D</creatorcontrib><creatorcontrib>KAJPUST, ANDREW J</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>DOWNS, JAMES J</au><au>SIELAFF, DARYL D</au><au>KAJPUST, ANDREW J</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR</title><date>2016-01-07</date><risdate>2016</risdate><abstract>Water treatment and valve control systems and apparatuses, and methods of using the same, are disclosed. In some examples, the apparatuses, systems, and methods include use of a rotary position sensor and one or more rotatable elements configured to, when moving from an initial rotational position to subsequent rotational positions, move one or more element of a valve assembly. In various examples of the apparatuses, systems, and methods, the rotatable element rotates directly from one rotational position to another rotational position. In certain examples, the rotary position sensor measures an electrical resistance value to detect the rotational position of the rotatable element. L'invention concerne des systèmes et appareils de commande de clapet et de traitement de l'eau, ainsi que leurs procédés d'utilisation. Selon certains exemples, les appareils, systèmes et procédés comprennent l'utilisation d'un capteur de position rotatif et d'un ou de plusieurs éléments rotatifs conçus, lorsqu'ils se déplacent d'une position de rotation initiale dans des positions de rotation suivantes, pour déplacer un ou plusieurs éléments d'un ensemble clapet. Selon divers exemples des appareils, systèmes et procédés, l'élément rotatif tourne directement d'une première position de rotation à une autre position de rotation. Selon certains exemples, le capteur de position rotatif mesure une valeur de résistance électrique pour détecter la position de rotation de l'élément rotatif.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2016004339A2
source esp@cenet
subjects CHEMISTRY
METALLURGY
TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
title WATER TREATMENT VALVE CONTROL SYSTEM WITH ROTARY POSITION SENSOR
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-03T23%3A28%3A55IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=DOWNS,%20JAMES%20J&rft.date=2016-01-07&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2016004339A2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true