OBJECT POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, OBJECT POSITIONING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
The invention relates to an object positioning system comprising a movable object, an actuator system and a control system. The moveable object is moveable relative to a reference. The actuator system is configured to apply a force to the object at a force application location on the object in order...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | DIRKX, NIC SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES BUTLER, HANS KAMIDI, RAMIDIN AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA |
| description | The invention relates to an object positioning system comprising a movable object, an actuator system and a control system. The moveable object is moveable relative to a reference. The actuator system is configured to apply a force to the object at a force application location on the object in order to move the moveable object relative to the reference. The control system is configured to position a point of interest of the object relative to the reference. The control system is configured to drive the actuator system based on a parameter representing a spatial relationship between the force application location and the point of interest. The parameter is dependent on a further parameter representing a position of the object relative to the reference.
L'invention concerne un système de positionnement d'objet comprenant un objet mobile, un système d'actionneur, et un système de commande. L'objet mobile est mobile par rapport à une référence. Le système d'actionneur est configuré de façon à appliquer une force à l'objet en un endroit d'application de force sur l'objet afin de déplacer l'objet mobile par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour positionner un point d'intérêt de l'objet par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour actionner le système d'actionneur sur la base d'un paramètre représentant une relation spatiale entre l'emplacement d'application de force et le point d'intérêt. Le paramètre est dépendant d'un autre paramètre représentant une position de l'objet par rapport à la référence. |
| format | Patent |
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L'invention concerne un système de positionnement d'objet comprenant un objet mobile, un système d'actionneur, et un système de commande. L'objet mobile est mobile par rapport à une référence. Le système d'actionneur est configuré de façon à appliquer une force à l'objet en un endroit d'application de force sur l'objet afin de déplacer l'objet mobile par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour positionner un point d'intérêt de l'objet par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour actionner le système d'actionneur sur la base d'un paramètre représentant une relation spatiale entre l'emplacement d'application de force et le point d'intérêt. Le paramètre est dépendant d'un autre paramètre représentant une position de l'objet par rapport à la référence.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20151210&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2015185301A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20151210&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2015185301A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>DIRKX, NIC</creatorcontrib><creatorcontrib>SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER, HANS</creatorcontrib><creatorcontrib>KAMIDI, RAMIDIN</creatorcontrib><creatorcontrib>AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA</creatorcontrib><title>OBJECT POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, OBJECT POSITIONING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD</title><description>The invention relates to an object positioning system comprising a movable object, an actuator system and a control system. The moveable object is moveable relative to a reference. The actuator system is configured to apply a force to the object at a force application location on the object in order to move the moveable object relative to the reference. The control system is configured to position a point of interest of the object relative to the reference. The control system is configured to drive the actuator system based on a parameter representing a spatial relationship between the force application location and the point of interest. The parameter is dependent on a further parameter representing a position of the object relative to the reference.
L'invention concerne un système de positionnement d'objet comprenant un objet mobile, un système d'actionneur, et un système de commande. L'objet mobile est mobile par rapport à une référence. Le système d'actionneur est configuré de façon à appliquer une force à l'objet en un endroit d'application de force sur l'objet afin de déplacer l'objet mobile par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour positionner un point d'intérêt de l'objet par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour actionner le système d'actionneur sur la base d'un paramètre représentant une relation spatiale entre l'emplacement d'application de force et le point d'intérêt. Le paramètre est dépendant d'un autre paramètre représentant une position de l'objet par rapport à la référence.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZKjxd_JydQ5RCPAP9gzx9Pfz9HNXCI4MDnH11VFw9vcLCfL3gfN9PEM8_N2DHAM8PJ0VHAMCHIMcQ0KDdRSwGOHrClTqouDo56Lg4hrm6eyq4OvoF-rm6BwSGoSQ52FgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgaGpoYWpsYGho6GxsSpAgDEfDxy</recordid><startdate>20151210</startdate><enddate>20151210</enddate><creator>DIRKX, NIC</creator><creator>SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES</creator><creator>BUTLER, HANS</creator><creator>KAMIDI, RAMIDIN</creator><creator>AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20151210</creationdate><title>OBJECT POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, OBJECT POSITIONING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD</title><author>DIRKX, NIC ; SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES ; BUTLER, HANS ; KAMIDI, RAMIDIN ; AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2015185301A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2015</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>DIRKX, NIC</creatorcontrib><creatorcontrib>SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER, HANS</creatorcontrib><creatorcontrib>KAMIDI, RAMIDIN</creatorcontrib><creatorcontrib>AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>DIRKX, NIC</au><au>SIMONS, WILHELMUS, FRANCISCUS, JOHANNES</au><au>BUTLER, HANS</au><au>KAMIDI, RAMIDIN</au><au>AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>OBJECT POSITIONING SYSTEM, CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, OBJECT POSITIONING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD</title><date>2015-12-10</date><risdate>2015</risdate><abstract>The invention relates to an object positioning system comprising a movable object, an actuator system and a control system. The moveable object is moveable relative to a reference. The actuator system is configured to apply a force to the object at a force application location on the object in order to move the moveable object relative to the reference. The control system is configured to position a point of interest of the object relative to the reference. The control system is configured to drive the actuator system based on a parameter representing a spatial relationship between the force application location and the point of interest. The parameter is dependent on a further parameter representing a position of the object relative to the reference.
L'invention concerne un système de positionnement d'objet comprenant un objet mobile, un système d'actionneur, et un système de commande. L'objet mobile est mobile par rapport à une référence. Le système d'actionneur est configuré de façon à appliquer une force à l'objet en un endroit d'application de force sur l'objet afin de déplacer l'objet mobile par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour positionner un point d'intérêt de l'objet par rapport à la référence. Le système de commande est configuré pour actionner le système d'actionneur sur la base d'un paramètre représentant une relation spatiale entre l'emplacement d'application de force et le point d'intérêt. Le paramètre est dépendant d'un autre paramètre représentant une position de l'objet par rapport à la référence.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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