REDUCTION OF HOTSPOTS OF DENSE FEATURES

A computer-implemented method to adjust line-width roughness (LWR) in a lithographic apparatus, the method including receiving a value of LWR and/or image log slope (ILS) for each feature of a plurality of different features of a pattern to be imaged, using a patterning device, onto a substrate in a lithographic process, and evaluating a cost function comprising a lithographic parameter and the values of LWR and/or ILS to determine a value of the lithographic parameter that (i) reduces a bias between the LWR and/or ILS of the different features, or (ii) reduces a difference in the LWR and/or ILS of the different features between different lithographic apparatuses, or (iii) reduces a difference in the LWR and/or ILS of the different features between different patterning devices, or (iv) any combination selected from (i)-(iii). La présente invention concerne un procédé mis en œuvre par ordinateur pour régler la rugosité de largeur de raie (LWR) dans un appareil lithographique, le procédé consistant à recevoir une valeur de LWR et/ou pente logarithmique d'image (ILS) pour chaque caractéristique d'une pluralité de caractéristiques différentes d'un motif à imager, à l'aide d'un dispositif de formation de motifs, sur un substrat dans un processus lithographique, et à évaluer une fonction de coût comprenant un paramètre lithographique et les valeurs de LWR et/ou ILS pour déterminer une valeur du paramètre lithographique qui (i) réduit une polarisation entre la LWR et/ou ILS des différentes caractéristiques, ou (ii) réduit une différence de LWR et/ou ILS des différentes caractéristiques entre différents appareils lithographiques, ou (iii) réduit une différence de LWR et/ou ILS des différentes caractéristiques entre différents dispositifs de formation de motifs, ou (iv) une combinaison quelconque sélectionnée à partir de (i) à (iii).