PRINTED CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD HAVING CONTROLLED POROSITY

A method of fabricating a polishing pad includes determining a desired distribution of voids to be introduced within a polymer matrix of a polishing layer of the polishing pad. Electronic control signals configured to be read by a 3D printer are generated which specify the locations where a polymer matrix precursor is to be deposited, and specify the locations of the desired distribution of voids where no material is to be deposited. A plurality of layers of the polymer matrix corresponding to the plurality of the first locations is successfully deposited with the 3D printer. Each layer of the plurality of layers of polymer matrix is deposited by ejecting a polymer matrix precursor from a nozzle. The polymer matrix precursor is solidified to form a solidified polymer matrix having the desired distribution of voids. Selon l'invention, une méthode de fabrication d'un tampon de polissage consiste à déterminer une distribution de vides souhaitée à introduire dans une matrice polymère d'une couche de polissage du tampon de polissage. Des signaux de commande électronique configurés pour être lus par une imprimante 3D sont produits et spécifient les emplacements où un précurseur de matrice polymère doit être déposé, et spécifient les emplacements de la distribution souhaitée de vides où aucun matériau ne doit être déposé. Une pluralité de couches de la matrice polymère correspondant à la pluralité des premiers emplacements est déposée avec succès par l'imprimante 3D. Chaque couche de la pluralité de couches de matrice polymère est déposée en éjectant un précurseur de matrice polymère d'une buse. Le précurseur de matrice polymère est solidifié pour former une matrice polymère solidifiée ayant la distribution de vides souhaitée.