SUPPORT TABLE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

A support table (WT) to support a surface of a substrate (W), wherein the support table comprises: a base surface (22) substantially parallel to the surface of the substrate, a plurality of burls (20) protruding above the base surface, each of the burls having a respective distal end and a first height above the base surface, the burls arranged such that, when the substrate is supported by the support table, the substrate is supported by the respective distal ends, and a plurality of elongate raised protrusions (45) separated by gaps, each of the elongate raised protrusions having a second height above the base surface, wherein the elongate raised protrusions protrude above the base surface between the burls, and the second height is less than the first height; wherein the protrusions (45) are arranged such that a plurality of the gaps are aligned to form a straight gas flow path (82) towards an edge of the base surface. L'invention concerne une table de support (WT) destinée à soutenir une surface d'un substrat (W), ladite table de support comportant : une surface de base (22) sensiblement parallèle à la surface du substrat, une pluralité de bourrelets (20) faisant saillie au-dessus de la surface de base, chacun des bourrelets ayant une extrémité distale respective et une première hauteur au dessus de la surface de base, les bourrelets étant agencés de sorte que, quand le substrat est soutenu par la table de support, le substrat est soutenu par les extrémités distales respectives, et une pluralité de protubérances surélevées et allongées (45) séparées par des espaces, chacune des protubérances surélevées et allongées ayant une seconde hauteur au-dessus de la surface de base, les protubérances surélevées et allongées faisant saillie au-dessus de la surface de base entre les bourrelets, et la seconde hauteur étant inférieure à la première hauteur ; les protubérances (45) étant agencées de sorte que plusieurs espaces sont alignés pour former un chemin d'écoulement de gaz droit (82) vers un bord de la surface de base.