ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS
An integrated circuit includes a substrate having a plurality of electronic devices, a plurality of interconnect layers disposed on one or both sides of the substrate, and a plurality of active electrically conductive interconnect layer structures. The plurality of interconnect layers include horizo...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | |
---|---|
container_issue | |
container_start_page | |
container_title | |
container_volume | |
creator | HALLSCHMID, PETER MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN CICALO, JAMES |
description | An integrated circuit includes a substrate having a plurality of electronic devices, a plurality of interconnect layers disposed on one or both sides of the substrate, and a plurality of active electrically conductive interconnect layer structures. The plurality of interconnect layers include horizontal interconnect and vertical-interconnect-access (VIA) layers. The plurality of active electrically conductive interconnect layer structures are disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically coupled with at least one of the plurality of electronic devices. The integrated circuit also includes a plurality of spare electrically conductive interconnect layer structures disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically isolated from the plurality of active electrically conductive interconnect layer structures.
Un circuit intégré comprend un substrat ayant une pluralité de dispositifs électroniques, une pluralité de couches d'interconnexion disposées sur un côté ou les deux côtés du substrat, et une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives. La pluralité de couches d'interconnexion comprend des couches d'interconnexion horizontale et des couches d'accès d'interconnexion verticale (VIA). La pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives sont disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et couplées électriquement avec au moins un de la pluralité de dispositifs électroniques. Le circuit intégré comprend également une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices de réserve disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et isolées électriquement de la pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives. |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2015015319A3</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2015015319A3</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2015015319A33</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZPBzDHL28AxxdQ4JDXJV8HdTCA5wBDLCPYM8_dwVgkOCQsEywQpu_kEKnr4BQf5hri4Krn7unn6urmA1zh6Ofu5ArUEurkHBPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDQFIiMDS0djY2JUwUA-xovsw</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS</title><source>esp@cenet</source><creator>HALLSCHMID, PETER ; MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN ; CICALO, JAMES</creator><creatorcontrib>HALLSCHMID, PETER ; MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN ; CICALO, JAMES</creatorcontrib><description>An integrated circuit includes a substrate having a plurality of electronic devices, a plurality of interconnect layers disposed on one or both sides of the substrate, and a plurality of active electrically conductive interconnect layer structures. The plurality of interconnect layers include horizontal interconnect and vertical-interconnect-access (VIA) layers. The plurality of active electrically conductive interconnect layer structures are disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically coupled with at least one of the plurality of electronic devices. The integrated circuit also includes a plurality of spare electrically conductive interconnect layer structures disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically isolated from the plurality of active electrically conductive interconnect layer structures.
Un circuit intégré comprend un substrat ayant une pluralité de dispositifs électroniques, une pluralité de couches d'interconnexion disposées sur un côté ou les deux côtés du substrat, et une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives. La pluralité de couches d'interconnexion comprend des couches d'interconnexion horizontale et des couches d'accès d'interconnexion verticale (VIA). La pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives sont disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et couplées électriquement avec au moins un de la pluralité de dispositifs électroniques. Le circuit intégré comprend également une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices de réserve disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et isolées électriquement de la pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150625&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2015015319A3$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150625&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2015015319A3$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>HALLSCHMID, PETER</creatorcontrib><creatorcontrib>MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN</creatorcontrib><creatorcontrib>CICALO, JAMES</creatorcontrib><title>ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS</title><description>An integrated circuit includes a substrate having a plurality of electronic devices, a plurality of interconnect layers disposed on one or both sides of the substrate, and a plurality of active electrically conductive interconnect layer structures. The plurality of interconnect layers include horizontal interconnect and vertical-interconnect-access (VIA) layers. The plurality of active electrically conductive interconnect layer structures are disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically coupled with at least one of the plurality of electronic devices. The integrated circuit also includes a plurality of spare electrically conductive interconnect layer structures disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically isolated from the plurality of active electrically conductive interconnect layer structures.
Un circuit intégré comprend un substrat ayant une pluralité de dispositifs électroniques, une pluralité de couches d'interconnexion disposées sur un côté ou les deux côtés du substrat, et une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives. La pluralité de couches d'interconnexion comprend des couches d'interconnexion horizontale et des couches d'accès d'interconnexion verticale (VIA). La pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives sont disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et couplées électriquement avec au moins un de la pluralité de dispositifs électroniques. Le circuit intégré comprend également une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices de réserve disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et isolées électriquement de la pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPBzDHL28AxxdQ4JDXJV8HdTCA5wBDLCPYM8_dwVgkOCQsEywQpu_kEKnr4BQf5hri4Krn7unn6urmA1zh6Ofu5ArUEurkHBPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDQFIiMDS0djY2JUwUA-xovsw</recordid><startdate>20150625</startdate><enddate>20150625</enddate><creator>HALLSCHMID, PETER</creator><creator>MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN</creator><creator>CICALO, JAMES</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20150625</creationdate><title>ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS</title><author>HALLSCHMID, PETER ; MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN ; CICALO, JAMES</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2015015319A33</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2015</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>HALLSCHMID, PETER</creatorcontrib><creatorcontrib>MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN</creatorcontrib><creatorcontrib>CICALO, JAMES</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>HALLSCHMID, PETER</au><au>MOLLAH, A.K.M., KAMRUZZAMAN</au><au>CICALO, JAMES</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS</title><date>2015-06-25</date><risdate>2015</risdate><abstract>An integrated circuit includes a substrate having a plurality of electronic devices, a plurality of interconnect layers disposed on one or both sides of the substrate, and a plurality of active electrically conductive interconnect layer structures. The plurality of interconnect layers include horizontal interconnect and vertical-interconnect-access (VIA) layers. The plurality of active electrically conductive interconnect layer structures are disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically coupled with at least one of the plurality of electronic devices. The integrated circuit also includes a plurality of spare electrically conductive interconnect layer structures disposed on at least one of the plurality of interconnect layers and electrically isolated from the plurality of active electrically conductive interconnect layer structures.
Un circuit intégré comprend un substrat ayant une pluralité de dispositifs électroniques, une pluralité de couches d'interconnexion disposées sur un côté ou les deux côtés du substrat, et une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives. La pluralité de couches d'interconnexion comprend des couches d'interconnexion horizontale et des couches d'accès d'interconnexion verticale (VIA). La pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives sont disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et couplées électriquement avec au moins un de la pluralité de dispositifs électroniques. Le circuit intégré comprend également une pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices de réserve disposées sur au moins une de la pluralité de couches d'interconnexion et isolées électriquement de la pluralité de structures de couches d'interconnexion électriquement conductrices actives.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; fre |
recordid | cdi_epo_espacenet_WO2015015319A3 |
source | esp@cenet |
subjects | BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES |
title | ARCHITECTURE OF SPARE WIRING STRUCTURES FOR IMPROVED ENGINEERING CHANGE ORDERS |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-23T16%3A33%3A35IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=HALLSCHMID,%20PETER&rft.date=2015-06-25&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2015015319A3%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |