ION MILLING DEVICE

The present invention relates to an ion milling device that conducts processing by irradiating a sample with an ion beam, an objective of the current invention being to provide an ion milling device that is capable of highly precisely controlling the temperature of a sample regardless of deformations or the like in the sample during irradiation by the ion beam. Proposed is, for example, an ion milling device provided with at least one of: a shielding material support member that supports a shielding material that shields one part of the sample from the ion beam while the sample is exposed to the ion beam; a movement mechanism that, during irradiation with the ion beam, moves a contact surface of a sample platform with the sample in accordance with the deformation of the sample, the movement mechanism having a temperature control mechanism that controls the temperature of the shielding material support member and/or the sample platform; and a sample support member that is disposed between the shielding material and the sample and that, during irradiation with the ion beam, is deformed in accordance with the deformation of the sample. La présente invention concerne un dispositif de gravure ionique qui réalise un traitement en irradiant un échantillon avec un faisceau d'ions. La présente invention a entre autres pour objectif de réaliser un dispositif de gravure ionique qui est capable de réguler avec une grande précision la température d'un échantillon indépendamment des déformations ou similaires dans l'échantillon pendant l'irradiation par le faisceau d'ions. La solution proposée par l'invention est, par exemple, un dispositif de gravure ionique comprenant au moins l'un des éléments suivants : un élément support de matériau de blindage qui supporte un matériau de blindage qui protège une partie de l'échantillon contre le faisceau d'ions pendant que l'échantillon est exposé au faisceau d'ions ; un mécanisme de mouvement qui, pendant l'irradiation avec le faisceau d'ions, déplace une surface de contact d'une plate-forme porte-échantillon sur laquelle se trouve l'échantillon en fonction de la déformation de l'échantillon, le mécanisme de mouvement possédant un mécanisme de régulation de température qui régule la température de l'élément support de matériau de blindage et/ou de la plate-forme porte-échantillon ; et un élément support d'échantillon qui est disposé entre le matériau de blindage et l'échantillon et qui, pendant l'irradiation avec le faisceau d'io