TECHNIQUES FOR FORMING RECESS IN SUBSTRATE AND ARTICLES INCLUDING RECESSES

An assembly may include a substrate defining at least one recess and a component located adjacent to the recess and attached to the substrate. In some examples, the recess may be formed by frictionally contacting a structured abrasive layer of an abrasive article with a surface of the substrate, longitudinally advancing the structured abrasive layer relative to the surface of the substrate, and rotating the substrate around a rotational axis substantially perpendicular to the surface of the substrate such that the structured abrasive layer maintains contact with and abrades the surface of the substrate thereby forming the recess therein. In some examples, the recess may be formed in the substrate after the component is attached to the substrate. Moreover, the recess may be formed without using added loose abrasive particles or abrasive slurry. L'invention concerne un ensemble pouvant comprendre un substrat définissant au moins un évidement et un élément situé adjacent à l'évidement et fixé sur le substrat. Dans certains exemples, l'évidement peut être formé par l'entrée en contact par frottement d'une couche abrasive structurée d'un article abrasif avec une surface du substrat, l'avancement longitudinal de la couche abrasive structurée par rapport à la surface du substrat et la rotation du substrat autour d'un axe de rotation sensiblement perpendiculaire à la surface du substrat de sorte que la couche abrasive structurée maintienne un contact avec la surface du substrat et réalise une abrasion de la surface du substrat, ce qui permet de former l'évidement à l'intérieur de celui-ci. Dans certains exemples, l'évidement peut être formé dans le substrat après la fixation de l'élément sur le substrat. L'évidement peut en outre être formé sans utiliser de particules abrasives libres ni de boue abrasive.