AN ION SOURCE
In one embodiment an ion source includes an arc chamber and an emitter having a surface disposed in the arc chamber, where the emitter is configured to generate a plasma in the arc chamber. The ion source further includes a repeller having a repeller surface positioned opposite the emitter surface,...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | In one embodiment an ion source includes an arc chamber and an emitter having a surface disposed in the arc chamber, where the emitter is configured to generate a plasma in the arc chamber. The ion source further includes a repeller having a repeller surface positioned opposite the emitter surface, and a hollow cathode coupled to the repeller and configured to provide a feed material into the arc chamber.
Dans une forme de réalisation, l'invention concerne une source d'ions comprenant un tube à arc et un émetteur, lequel comporte une surface placée dans le tube à arc. L'émetteur est conçu pour produire un plasma dans le tube à arc. La source d'ions comprend en outre un réflecteur qui comporte une surface de réflecteur, positionnée à l'opposé de la surface de l'émetteur, et une cathode creuse, couplée au réflecteur et qui est conçue pour fournir une matière de charge dans le tube à arc. |
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