METHOD OF AND APPARATUS FOR SUPPLY AND RECOVERY OF TARGET MATERIAL

An EUV light source target material handling system is disclosed which may comprises droplet generator having a target material reservoir in which the target material may he replenished while a nozzle portion of the droplet generator is maintained at temperature. Also disclosed Is a system for setec...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ALGOTS, J., MARTIN, SYRPIS, THEODOSIOS, SESHAGIRI, SANJEEV, GACUTAN, JEFFREY, VASCHENKO, GEORGIY, O, RAJYAGURU, CHIRAG, BAUMGART, PETER, M
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	An EUV light source target material handling system is disclosed which may comprises droplet generator having a target material reservoir in which the target material may he replenished while a nozzle portion of the droplet generator is maintained at temperature. Also disclosed Is a system for setectively draining spent target material. L'invention concerne un système de manipulation de matériau cible de source de lumière UVE qui peut comprendre un générateur de gouttelettes ayant un réservoir de matériau cible dans lequel le matériau cible peut être rempli tandis qu'une partie de buse du générateur de gouttelettes est maintenue à une certaine température. L'invention concerne aussi un système permettant de vider sélectivement le matériau cible utilisé.