SOLVENT ANNEAL PROCESSING FOR DIRECTED-SELF-ASSEMBLY APPLICATIONS
A method (10) and apparatus (100) for solvent annealing a layered substrate including a layer of a block copolymer are provided. The method (10) includes (a) introducing an annealing gas into a processing chamber (20); (b) maintaining the annealing gas in the processing chamber for a first time peri...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | SOMERVELL, MARK, H |
| description | A method (10) and apparatus (100) for solvent annealing a layered substrate including a layer of a block copolymer are provided. The method (10) includes (a) introducing an annealing gas into a processing chamber (20); (b) maintaining the annealing gas in the processing chamber for a first time period (30); (c) removing the annealing gas from the processing chamber (40); and (d) repeating steps (a)-(c) a plurality of times in order induce the block copolymer to undergo cyclic self-assembly (50). The apparatus (100) includes a processing chamber (1 12) comprising a process space (126); a substrate support surface (134) in the process space (126); a solvent annealing gas supply (170) and a purge gas supply (178), both in fluid communication with the process space (126); a heating element (220) positioned within the processing chamber (1 12); an exhaust port (190) in the processing chamber (1 12); and a sequencing device (216) programmed to control the annealing gas supply valve (175), the heating element (220), the exhaust port valve (194), and the purge gas supply valve (180).
La présente invention porte sur un procédé (10) et un appareil (100) pour recuit par solvant d'un substrat stratifié comprenant une couche d'un copolymère en bloc. Le procédé (10) comprend (a) l'introduction d'un gaz de recuit dans une chambre (20) de traitement ; (b) le maintien du gaz de recuit dans la chambre de traitement pendant une première période (30) temporelle ; (c) l'élimination du gaz de recuit de la chambre (40) de traitement ; et (d) la répétition des étapes (a)-(c) une pluralité de fois afin d'amener le copolymère en bloc à subir un auto-assemblage (50) cyclique. L'appareil (100) comprend une chambre (112) de traitement comprenant un espace (126) de traitement ; une surface (134) de support de substrat dans l'espace (126) de traitement ; une alimentation (170) en gaz de recuit par solvant et une alimentation (178) en gaz de purge, toutes les deux en communication fluidique avec l'espace (126) de traitement ; un élément (220) chauffant positionné à l'intérieur de la chambre (112) de traitement ; un orifice (190) d'échappement dans la chambre (112) de traitement ; et un dispositif (216) de séquençage programmé pour commander la vanne (175) d'alimentation en gaz de recuit, l'élément (220) chauffant, la vanne (194) d'orifice d'échappement et la vanne (180) d'alimentation en gaz de purge. |
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La présente invention porte sur un procédé (10) et un appareil (100) pour recuit par solvant d'un substrat stratifié comprenant une couche d'un copolymère en bloc. Le procédé (10) comprend (a) l'introduction d'un gaz de recuit dans une chambre (20) de traitement ; (b) le maintien du gaz de recuit dans la chambre de traitement pendant une première période (30) temporelle ; (c) l'élimination du gaz de recuit de la chambre (40) de traitement ; et (d) la répétition des étapes (a)-(c) une pluralité de fois afin d'amener le copolymère en bloc à subir un auto-assemblage (50) cyclique. L'appareil (100) comprend une chambre (112) de traitement comprenant un espace (126) de traitement ; une surface (134) de support de substrat dans l'espace (126) de traitement ; une alimentation (170) en gaz de recuit par solvant et une alimentation (178) en gaz de purge, toutes les deux en communication fluidique avec l'espace (126) de traitement ; un élément (220) chauffant positionné à l'intérieur de la chambre (112) de traitement ; un orifice (190) d'échappement dans la chambre (112) de traitement ; et un dispositif (216) de séquençage programmé pour commander la vanne (175) d'alimentation en gaz de recuit, l'élément (220) chauffant, la vanne (194) d'orifice d'échappement et la vanne (180) d'alimentation en gaz de purge.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2014</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140925&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2014149294A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25562,76317</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140925&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2014149294A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SOMERVELL, MARK, H</creatorcontrib><title>SOLVENT ANNEAL PROCESSING FOR DIRECTED-SELF-ASSEMBLY APPLICATIONS</title><description>A method (10) and apparatus (100) for solvent annealing a layered substrate including a layer of a block copolymer are provided. The method (10) includes (a) introducing an annealing gas into a processing chamber (20); (b) maintaining the annealing gas in the processing chamber for a first time period (30); (c) removing the annealing gas from the processing chamber (40); and (d) repeating steps (a)-(c) a plurality of times in order induce the block copolymer to undergo cyclic self-assembly (50). The apparatus (100) includes a processing chamber (1 12) comprising a process space (126); a substrate support surface (134) in the process space (126); a solvent annealing gas supply (170) and a purge gas supply (178), both in fluid communication with the process space (126); a heating element (220) positioned within the processing chamber (1 12); an exhaust port (190) in the processing chamber (1 12); and a sequencing device (216) programmed to control the annealing gas supply valve (175), the heating element (220), the exhaust port valve (194), and the purge gas supply valve (180).
La présente invention porte sur un procédé (10) et un appareil (100) pour recuit par solvant d'un substrat stratifié comprenant une couche d'un copolymère en bloc. Le procédé (10) comprend (a) l'introduction d'un gaz de recuit dans une chambre (20) de traitement ; (b) le maintien du gaz de recuit dans la chambre de traitement pendant une première période (30) temporelle ; (c) l'élimination du gaz de recuit de la chambre (40) de traitement ; et (d) la répétition des étapes (a)-(c) une pluralité de fois afin d'amener le copolymère en bloc à subir un auto-assemblage (50) cyclique. L'appareil (100) comprend une chambre (112) de traitement comprenant un espace (126) de traitement ; une surface (134) de support de substrat dans l'espace (126) de traitement ; une alimentation (170) en gaz de recuit par solvant et une alimentation (178) en gaz de purge, toutes les deux en communication fluidique avec l'espace (126) de traitement ; un élément (220) chauffant positionné à l'intérieur de la chambre (112) de traitement ; un orifice (190) d'échappement dans la chambre (112) de traitement ; et un dispositif (216) de séquençage programmé pour commander la vanne (175) d'alimentation en gaz de recuit, l'élément (220) chauffant, la vanne (194) d'orifice d'échappement et la vanne (180) d'alimentation en gaz de purge.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2014</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHAM9vcJc_ULUXD083N19FEICPJ3dg0O9vRzV3DzD1Jw8QxydQ5xddENdvVx03UMDnb1dfKJVHAMCPDxdHYM8fT3C-ZhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhiaGJpZGliaOhsbEqQIApYUsLQ</recordid><startdate>20140925</startdate><enddate>20140925</enddate><creator>SOMERVELL, MARK, H</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20140925</creationdate><title>SOLVENT ANNEAL PROCESSING FOR DIRECTED-SELF-ASSEMBLY APPLICATIONS</title><author>SOMERVELL, MARK, H</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2014149294A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2014</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SOMERVELL, MARK, H</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SOMERVELL, MARK, H</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SOLVENT ANNEAL PROCESSING FOR DIRECTED-SELF-ASSEMBLY APPLICATIONS</title><date>2014-09-25</date><risdate>2014</risdate><abstract>A method (10) and apparatus (100) for solvent annealing a layered substrate including a layer of a block copolymer are provided. The method (10) includes (a) introducing an annealing gas into a processing chamber (20); (b) maintaining the annealing gas in the processing chamber for a first time period (30); (c) removing the annealing gas from the processing chamber (40); and (d) repeating steps (a)-(c) a plurality of times in order induce the block copolymer to undergo cyclic self-assembly (50). The apparatus (100) includes a processing chamber (1 12) comprising a process space (126); a substrate support surface (134) in the process space (126); a solvent annealing gas supply (170) and a purge gas supply (178), both in fluid communication with the process space (126); a heating element (220) positioned within the processing chamber (1 12); an exhaust port (190) in the processing chamber (1 12); and a sequencing device (216) programmed to control the annealing gas supply valve (175), the heating element (220), the exhaust port valve (194), and the purge gas supply valve (180).
La présente invention porte sur un procédé (10) et un appareil (100) pour recuit par solvant d'un substrat stratifié comprenant une couche d'un copolymère en bloc. Le procédé (10) comprend (a) l'introduction d'un gaz de recuit dans une chambre (20) de traitement ; (b) le maintien du gaz de recuit dans la chambre de traitement pendant une première période (30) temporelle ; (c) l'élimination du gaz de recuit de la chambre (40) de traitement ; et (d) la répétition des étapes (a)-(c) une pluralité de fois afin d'amener le copolymère en bloc à subir un auto-assemblage (50) cyclique. L'appareil (100) comprend une chambre (112) de traitement comprenant un espace (126) de traitement ; une surface (134) de support de substrat dans l'espace (126) de traitement ; une alimentation (170) en gaz de recuit par solvant et une alimentation (178) en gaz de purge, toutes les deux en communication fluidique avec l'espace (126) de traitement ; un élément (220) chauffant positionné à l'intérieur de la chambre (112) de traitement ; un orifice (190) d'échappement dans la chambre (112) de traitement ; et un dispositif (216) de séquençage programmé pour commander la vanne (175) d'alimentation en gaz de recuit, l'élément (220) chauffant, la vanne (194) d'orifice d'échappement et la vanne (180) d'alimentation en gaz de purge.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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