LITHOGRAPHY METHOD AND LITHOGRAPHY DEVICE FOR COMPONENTS AND CIRCUITS HAVING MICROSCALE AND NANOSCALE STRUCTURAL DIMENSIONS

Ein Lithographieverfahren und eine Lithographievorrichtung werden beschrieben, bei dem bzw. bei der ein von einer Rastersonde erzeugtes elektrisches Feld und ein daraus resultierender Feldemissions-/Tunnel /Faraday'scher- Elektronenstrom zur Erzeugung einer Feinstrukturierung einer Resistschich...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	HOFER, MANUEL, KÄSTNER, MARKUS, RANGELOW, IVO W
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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