PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR
The present invention addresses the issue of providing a small pressure sensor, which has a simple and robust structure, and high measurement accuracy, and a vacuum processing apparatus that is provided with the pressure sensor. A pressure sensor (1) of the present invention is provided with: a sens...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | |
---|---|
container_issue | |
container_start_page | |
container_title | |
container_volume | |
creator | TAJIRI, SHUICHI AOZONO, TAKASHI OGAWA, SOICHI MIMA, HIROSHI OKANO, YUKIKO |
description | The present invention addresses the issue of providing a small pressure sensor, which has a simple and robust structure, and high measurement accuracy, and a vacuum processing apparatus that is provided with the pressure sensor. A pressure sensor (1) of the present invention is provided with: a sensor unit (2), which is provided with a base section (4) having a hollow portion (4a) formed therein, a polymer film (5) that is provided on the front surface of the base section (4), a first thin film sensor (6) that is provided on the front surface region (5b) of the polymer film (5), and a second thin film sensor (7) that is provided on the front surface region (5c) of the polymer film (5); and a control unit (3) that is provided with a first drive section, which supplies power to the first thin film sensor (6) such that the temperature of the first thin film sensor (6) is maintained at a predetermined temperature, and a second drive section, which supplies to the second thin film sensor (7) a minute current that does not affect the temperature of the second thin film sensor (7). The first thin film sensor (6) and the second thin film sensor (7) are configured such that the resistance values thereof change corresponding to temperature.
La présente invention a pour objet de réaliser un petit capteur de pression caractérisé par une structure simple et robuste et par une haute précision de mesure, ainsi qu'un appareil de traitement sous vide muni du capteur de pression. Un capteur (1) de pression selon la présente invention comporte: une unité (2) de capteur dotée d'une section (4) de socle dans laquelle est formée une partie creuse (4a), un film (5) en polymère placé sur la surface avant de la section (4) de socle, un premier capteur (6) à film mince placé sur la région (5b) de surface avant du film (5) en polymère, et un deuxième capteur (7) à film mince placé sur la région (5c) de surface avant du film (5) en polymère; et une unité (3) de commande munie d'une première section d'excitation, qui alimente le premier capteur (6) à film mince de telle façon que la température du premier capteur (6) à film mince soit maintenue à une température prédéterminée, et d'une deuxième section d'excitation, qui fournit au deuxième capteur (7) à film mince un très faible courant qui n'affecte pas la température dudit deuxième capteur (7) à film mince. Le premier capteur (6) à film mince et le deuxième capteur (7) à film mince sont configurés de telle façon que leurs valeurs de |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2014057536A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2014057536A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2014057536A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHANCHINDg4NclUIdvUL9g9ScPRzUQhzdA4N9VUICPJ3Bkp6-rkrOAYEOAY5hoQGK4SC-Wi6eBhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_kYGhiYGpuamxmaOhMXGqAINCLZw</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR</title><source>esp@cenet</source><creator>TAJIRI, SHUICHI ; AOZONO, TAKASHI ; OGAWA, SOICHI ; MIMA, HIROSHI ; OKANO, YUKIKO</creator><creatorcontrib>TAJIRI, SHUICHI ; AOZONO, TAKASHI ; OGAWA, SOICHI ; MIMA, HIROSHI ; OKANO, YUKIKO</creatorcontrib><description>The present invention addresses the issue of providing a small pressure sensor, which has a simple and robust structure, and high measurement accuracy, and a vacuum processing apparatus that is provided with the pressure sensor. A pressure sensor (1) of the present invention is provided with: a sensor unit (2), which is provided with a base section (4) having a hollow portion (4a) formed therein, a polymer film (5) that is provided on the front surface of the base section (4), a first thin film sensor (6) that is provided on the front surface region (5b) of the polymer film (5), and a second thin film sensor (7) that is provided on the front surface region (5c) of the polymer film (5); and a control unit (3) that is provided with a first drive section, which supplies power to the first thin film sensor (6) such that the temperature of the first thin film sensor (6) is maintained at a predetermined temperature, and a second drive section, which supplies to the second thin film sensor (7) a minute current that does not affect the temperature of the second thin film sensor (7). The first thin film sensor (6) and the second thin film sensor (7) are configured such that the resistance values thereof change corresponding to temperature.
La présente invention a pour objet de réaliser un petit capteur de pression caractérisé par une structure simple et robuste et par une haute précision de mesure, ainsi qu'un appareil de traitement sous vide muni du capteur de pression. Un capteur (1) de pression selon la présente invention comporte: une unité (2) de capteur dotée d'une section (4) de socle dans laquelle est formée une partie creuse (4a), un film (5) en polymère placé sur la surface avant de la section (4) de socle, un premier capteur (6) à film mince placé sur la région (5b) de surface avant du film (5) en polymère, et un deuxième capteur (7) à film mince placé sur la région (5c) de surface avant du film (5) en polymère; et une unité (3) de commande munie d'une première section d'excitation, qui alimente le premier capteur (6) à film mince de telle façon que la température du premier capteur (6) à film mince soit maintenue à une température prédéterminée, et d'une deuxième section d'excitation, qui fournit au deuxième capteur (7) à film mince un très faible courant qui n'affecte pas la température dudit deuxième capteur (7) à film mince. Le premier capteur (6) à film mince et le deuxième capteur (7) à film mince sont configurés de telle façon que leurs valeurs de résistance varient en fonction de la température.</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; MEASURING ; MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER,MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; PHYSICS ; TESTING ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2014</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140417&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2014057536A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140417&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2014057536A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>TAJIRI, SHUICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>AOZONO, TAKASHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OGAWA, SOICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MIMA, HIROSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OKANO, YUKIKO</creatorcontrib><title>PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR</title><description>The present invention addresses the issue of providing a small pressure sensor, which has a simple and robust structure, and high measurement accuracy, and a vacuum processing apparatus that is provided with the pressure sensor. A pressure sensor (1) of the present invention is provided with: a sensor unit (2), which is provided with a base section (4) having a hollow portion (4a) formed therein, a polymer film (5) that is provided on the front surface of the base section (4), a first thin film sensor (6) that is provided on the front surface region (5b) of the polymer film (5), and a second thin film sensor (7) that is provided on the front surface region (5c) of the polymer film (5); and a control unit (3) that is provided with a first drive section, which supplies power to the first thin film sensor (6) such that the temperature of the first thin film sensor (6) is maintained at a predetermined temperature, and a second drive section, which supplies to the second thin film sensor (7) a minute current that does not affect the temperature of the second thin film sensor (7). The first thin film sensor (6) and the second thin film sensor (7) are configured such that the resistance values thereof change corresponding to temperature.
La présente invention a pour objet de réaliser un petit capteur de pression caractérisé par une structure simple et robuste et par une haute précision de mesure, ainsi qu'un appareil de traitement sous vide muni du capteur de pression. Un capteur (1) de pression selon la présente invention comporte: une unité (2) de capteur dotée d'une section (4) de socle dans laquelle est formée une partie creuse (4a), un film (5) en polymère placé sur la surface avant de la section (4) de socle, un premier capteur (6) à film mince placé sur la région (5b) de surface avant du film (5) en polymère, et un deuxième capteur (7) à film mince placé sur la région (5c) de surface avant du film (5) en polymère; et une unité (3) de commande munie d'une première section d'excitation, qui alimente le premier capteur (6) à film mince de telle façon que la température du premier capteur (6) à film mince soit maintenue à une température prédéterminée, et d'une deuxième section d'excitation, qui fournit au deuxième capteur (7) à film mince un très faible courant qui n'affecte pas la température dudit deuxième capteur (7) à film mince. Le premier capteur (6) à film mince et le deuxième capteur (7) à film mince sont configurés de telle façon que leurs valeurs de résistance varient en fonction de la température.</description><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER,MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2014</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHANCHINDg4NclUIdvUL9g9ScPRzUQhzdA4N9VUICPJ3Bkp6-rkrOAYEOAY5hoQGK4SC-Wi6eBhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_kYGhiYGpuamxmaOhMXGqAINCLZw</recordid><startdate>20140417</startdate><enddate>20140417</enddate><creator>TAJIRI, SHUICHI</creator><creator>AOZONO, TAKASHI</creator><creator>OGAWA, SOICHI</creator><creator>MIMA, HIROSHI</creator><creator>OKANO, YUKIKO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20140417</creationdate><title>PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR</title><author>TAJIRI, SHUICHI ; AOZONO, TAKASHI ; OGAWA, SOICHI ; MIMA, HIROSHI ; OKANO, YUKIKO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2014057536A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2014</creationdate><topic>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</topic><topic>MEASURING</topic><topic>MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER,MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><topic>THEIR RELEVANT APPARATUS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>TAJIRI, SHUICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>AOZONO, TAKASHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OGAWA, SOICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MIMA, HIROSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OKANO, YUKIKO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>TAJIRI, SHUICHI</au><au>AOZONO, TAKASHI</au><au>OGAWA, SOICHI</au><au>MIMA, HIROSHI</au><au>OKANO, YUKIKO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR</title><date>2014-04-17</date><risdate>2014</risdate><abstract>The present invention addresses the issue of providing a small pressure sensor, which has a simple and robust structure, and high measurement accuracy, and a vacuum processing apparatus that is provided with the pressure sensor. A pressure sensor (1) of the present invention is provided with: a sensor unit (2), which is provided with a base section (4) having a hollow portion (4a) formed therein, a polymer film (5) that is provided on the front surface of the base section (4), a first thin film sensor (6) that is provided on the front surface region (5b) of the polymer film (5), and a second thin film sensor (7) that is provided on the front surface region (5c) of the polymer film (5); and a control unit (3) that is provided with a first drive section, which supplies power to the first thin film sensor (6) such that the temperature of the first thin film sensor (6) is maintained at a predetermined temperature, and a second drive section, which supplies to the second thin film sensor (7) a minute current that does not affect the temperature of the second thin film sensor (7). The first thin film sensor (6) and the second thin film sensor (7) are configured such that the resistance values thereof change corresponding to temperature.
La présente invention a pour objet de réaliser un petit capteur de pression caractérisé par une structure simple et robuste et par une haute précision de mesure, ainsi qu'un appareil de traitement sous vide muni du capteur de pression. Un capteur (1) de pression selon la présente invention comporte: une unité (2) de capteur dotée d'une section (4) de socle dans laquelle est formée une partie creuse (4a), un film (5) en polymère placé sur la surface avant de la section (4) de socle, un premier capteur (6) à film mince placé sur la région (5b) de surface avant du film (5) en polymère, et un deuxième capteur (7) à film mince placé sur la région (5c) de surface avant du film (5) en polymère; et une unité (3) de commande munie d'une première section d'excitation, qui alimente le premier capteur (6) à film mince de telle façon que la température du premier capteur (6) à film mince soit maintenue à une température prédéterminée, et d'une deuxième section d'excitation, qui fournit au deuxième capteur (7) à film mince un très faible courant qui n'affecte pas la température dudit deuxième capteur (7) à film mince. Le premier capteur (6) à film mince et le deuxième capteur (7) à film mince sont configurés de telle façon que leurs valeurs de résistance varient en fonction de la température.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; fre ; jpn |
recordid | cdi_epo_espacenet_WO2014057536A1 |
source | esp@cenet |
subjects | CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY MEASURING MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER,MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL PHYSICS TESTING THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING |
title | PRESSURE SENSOR AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING PRESSURE SENSOR |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-12T09%3A38%3A41IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=TAJIRI,%20SHUICHI&rft.date=2014-04-17&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2014057536A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |