ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the...
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| creator | GURARY, ALEXANDER, I POLLOCK, JOHN, D MILGATE, III, ROBERT, WHITE BARRISS, LOUISE, S LUSE, TODD, A COMUNALE, RICHARD, A FREMGEN, ROGER, P |
| description | A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the upper and the lower ferrofluid seal. A turntable is positioned in the vacuum chamber and is coupled to the motor shaft so that the motor rotates the turntable at a desired rotation rate. A dielectric support is coupled to the turntable so that the turntable rotates the dielectric support when driven by the shaft. A substrate carrier is positioned on the dielectric support in the vacuum chamber for chemical vapor deposition processing. A heater is positioned proximate to the substrate carrier that controls the temperature of the substrate carrier to a desired temperature for chemical vapor deposition.
Un réacteur à disque rotatif utilisé dans le dépôt chimique en phase vapeur comprend une chambre à vide et une alimentation de ferrofluide, comprenant des joints ferrofluides supérieur et inférieur, qui passe parun arbre de moteurpour pénétrer dans la chambre à vide. Un moteur est accouplé à l'arbre et est positionné dans une région atmosphérique entre les joints ferrofluides supérieur et inférieur. Une plaque tournante est positionnée dans la chambre à vide et est accouplée à l'arbre du moteur de sorte que le moteur entraîne en rotation la plaque tournante à une vitesse désirée. Un support diélectrique est accouplé à la plaque tournante de sorte que celle-ci fasse tourner le support diélectrique lorsqu'elle est entraînée par l'arbre. Un support de substrat est positionné sur le support diélectrique dans la chambre à vide en vue d'un traitement par dépôt chimique en phase vapeur. Un dispositif chauffant est positionné à proximité du support de substrat de façon à réguler la température de ce dernier à une température désirée pour le dépôt chimique en phase vapeur. |
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Un réacteur à disque rotatif utilisé dans le dépôt chimique en phase vapeur comprend une chambre à vide et une alimentation de ferrofluide, comprenant des joints ferrofluides supérieur et inférieur, qui passe parun arbre de moteurpour pénétrer dans la chambre à vide. Un moteur est accouplé à l'arbre et est positionné dans une région atmosphérique entre les joints ferrofluides supérieur et inférieur. Une plaque tournante est positionnée dans la chambre à vide et est accouplée à l'arbre du moteur de sorte que le moteur entraîne en rotation la plaque tournante à une vitesse désirée. Un support diélectrique est accouplé à la plaque tournante de sorte que celle-ci fasse tourner le support diélectrique lorsqu'elle est entraînée par l'arbre. Un support de substrat est positionné sur le support diélectrique dans la chambre à vide en vue d'un traitement par dépôt chimique en phase vapeur. Un dispositif chauffant est positionné à proximité du support de substrat de façon à réguler la température de ce dernier à une température désirée pour le dépôt chimique en phase vapeur.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131121&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013173152A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131121&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013173152A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>GURARY, ALEXANDER, I</creatorcontrib><creatorcontrib>POLLOCK, JOHN, D</creatorcontrib><creatorcontrib>MILGATE, III, ROBERT, WHITE</creatorcontrib><creatorcontrib>BARRISS, LOUISE, S</creatorcontrib><creatorcontrib>LUSE, TODD, A</creatorcontrib><creatorcontrib>COMUNALE, RICHARD, A</creatorcontrib><creatorcontrib>FREMGEN, ROGER, P</creatorcontrib><title>ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION</title><description>A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the upper and the lower ferrofluid seal. A turntable is positioned in the vacuum chamber and is coupled to the motor shaft so that the motor rotates the turntable at a desired rotation rate. A dielectric support is coupled to the turntable so that the turntable rotates the dielectric support when driven by the shaft. A substrate carrier is positioned on the dielectric support in the vacuum chamber for chemical vapor deposition processing. A heater is positioned proximate to the substrate carrier that controls the temperature of the substrate carrier to a desired temperature for chemical vapor deposition.
Un réacteur à disque rotatif utilisé dans le dépôt chimique en phase vapeur comprend une chambre à vide et une alimentation de ferrofluide, comprenant des joints ferrofluides supérieur et inférieur, qui passe parun arbre de moteurpour pénétrer dans la chambre à vide. Un moteur est accouplé à l'arbre et est positionné dans une région atmosphérique entre les joints ferrofluides supérieur et inférieur. Une plaque tournante est positionnée dans la chambre à vide et est accouplée à l'arbre du moteur de sorte que le moteur entraîne en rotation la plaque tournante à une vitesse désirée. Un support diélectrique est accouplé à la plaque tournante de sorte que celle-ci fasse tourner le support diélectrique lorsqu'elle est entraînée par l'arbre. Un support de substrat est positionné sur le support diélectrique dans la chambre à vide en vue d'un traitement par dépôt chimique en phase vapeur. Un dispositif chauffant est positionné à proximité du support de substrat de façon à réguler la température de ce dernier à une température désirée pour le dépôt chimique en phase vapeur.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPAI8g9xDPH0c1dw8Qz2VghydXQO8Q9SCPcM8VBwcw0K8nfzCfV0UQh2dfRRcANKOHu4-no6AzlhjgFArotrgH-wZ4invx8PA2taYk5xKi-U5mZQdnMNcfbQTS3Ij08tLkhMTs1LLYkP9zcyMDQ2NDc2NDVyNDQmThUAwUItyg</recordid><startdate>20131121</startdate><enddate>20131121</enddate><creator>GURARY, ALEXANDER, I</creator><creator>POLLOCK, JOHN, D</creator><creator>MILGATE, III, ROBERT, WHITE</creator><creator>BARRISS, LOUISE, S</creator><creator>LUSE, TODD, A</creator><creator>COMUNALE, RICHARD, A</creator><creator>FREMGEN, ROGER, P</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20131121</creationdate><title>ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION</title><author>GURARY, ALEXANDER, I ; POLLOCK, JOHN, D ; MILGATE, III, ROBERT, WHITE ; BARRISS, LOUISE, S ; LUSE, TODD, A ; COMUNALE, RICHARD, A ; FREMGEN, ROGER, P</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013173152A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2013</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>GURARY, ALEXANDER, I</creatorcontrib><creatorcontrib>POLLOCK, JOHN, D</creatorcontrib><creatorcontrib>MILGATE, III, ROBERT, WHITE</creatorcontrib><creatorcontrib>BARRISS, LOUISE, S</creatorcontrib><creatorcontrib>LUSE, TODD, A</creatorcontrib><creatorcontrib>COMUNALE, RICHARD, A</creatorcontrib><creatorcontrib>FREMGEN, ROGER, P</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>GURARY, ALEXANDER, I</au><au>POLLOCK, JOHN, D</au><au>MILGATE, III, ROBERT, WHITE</au><au>BARRISS, LOUISE, S</au><au>LUSE, TODD, A</au><au>COMUNALE, RICHARD, A</au><au>FREMGEN, ROGER, P</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION</title><date>2013-11-21</date><risdate>2013</risdate><abstract>A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the upper and the lower ferrofluid seal. A turntable is positioned in the vacuum chamber and is coupled to the motor shaft so that the motor rotates the turntable at a desired rotation rate. A dielectric support is coupled to the turntable so that the turntable rotates the dielectric support when driven by the shaft. A substrate carrier is positioned on the dielectric support in the vacuum chamber for chemical vapor deposition processing. A heater is positioned proximate to the substrate carrier that controls the temperature of the substrate carrier to a desired temperature for chemical vapor deposition.
Un réacteur à disque rotatif utilisé dans le dépôt chimique en phase vapeur comprend une chambre à vide et une alimentation de ferrofluide, comprenant des joints ferrofluides supérieur et inférieur, qui passe parun arbre de moteurpour pénétrer dans la chambre à vide. Un moteur est accouplé à l'arbre et est positionné dans une région atmosphérique entre les joints ferrofluides supérieur et inférieur. Une plaque tournante est positionnée dans la chambre à vide et est accouplée à l'arbre du moteur de sorte que le moteur entraîne en rotation la plaque tournante à une vitesse désirée. Un support diélectrique est accouplé à la plaque tournante de sorte que celle-ci fasse tourner le support diélectrique lorsqu'elle est entraînée par l'arbre. Un support de substrat est positionné sur le support diélectrique dans la chambre à vide en vue d'un traitement par dépôt chimique en phase vapeur. Un dispositif chauffant est positionné à proximité du support de substrat de façon à réguler la température de ce dernier à une température désirée pour le dépôt chimique en phase vapeur.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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