METHOD FOR CONSISTENTLY TEXTURIZING SILICON WAFERS DURING SOLAR CELL WET CHEMICAL PROCESSING
A method for consistently texturizing silicon wafers dating solar cell wet chemical processing. In one aspect, the invention includes submerging a batch of silicon wafers within a process chamber having an alkaline solution mixture therein. The invention utilizes a feed and bleed technique to bleed...
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Format: | Patent |
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creator | CHEN, GIM-SYANG RIEKER, JENNIFER KASHKOUSH, ISMAIL NEMETH, DENNIS |
description | A method for consistently texturizing silicon wafers dating solar cell wet chemical processing. In one aspect, the invention includes submerging a batch of silicon wafers within a process chamber having an alkaline solution mixture therein. The invention utilizes a feed and bleed technique to bleed chemicals from the process chamber and introduce fresh chemicals into the process chamber to maintain chemical concentrations within a desired range and to maintain etch by-products below a threshold. The alkaline solution etches the silicon wafers to texturize the surfaces of the silicon wafers to form a pattern of pyramids ( i.e., texturization pattern) on the surface of the silicon wafers. The feed and bleed technique enables the textorization pattern on the surfaces of the processed wafers and the reflectance of the processed wafers to be consistent among different batches of silicon wafers that are submerged into the alkaline mixture in the process chamber.
L'invention concerne un procédé permettant de texturiser uniformément des plaquettes de silicium datant un traitement chimique par voie humide de cellules solaires. Dans un aspect, l'invention consiste à submerger un lot de plaquettes de silicium dans une chambre de traitement contenant un mélange de solution alcaline. L'invention utilise une technique à écoulement continu pour évacuer des produits chimiques de la chambre de traitement et introduire des produits chimiques frais dans la chambre de traitement pour maintenir les concentrations chimiques dans une plage désirée et pour maintenir les sous-produits de gravure sous un seuil. La solution alcaline grave les plaquettes de silicium pour texturiser les surfaces des plaquettes de silicium pour former un motif de pyramides (c.-à-d. un motif de texturisation) sur la surface des plaquettes de silicium. La technique à écoulement continu permet de rendre uniforme le motif de texturisation sur les surfaces des plaquettes traitées et la réflectance des plaquettes traitées parmi les différents lots de plaquettes de silicium qui sont submergées dans le mélange alcalin dans la chambre de traitement. |
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L'invention concerne un procédé permettant de texturiser uniformément des plaquettes de silicium datant un traitement chimique par voie humide de cellules solaires. Dans un aspect, l'invention consiste à submerger un lot de plaquettes de silicium dans une chambre de traitement contenant un mélange de solution alcaline. L'invention utilise une technique à écoulement continu pour évacuer des produits chimiques de la chambre de traitement et introduire des produits chimiques frais dans la chambre de traitement pour maintenir les concentrations chimiques dans une plage désirée et pour maintenir les sous-produits de gravure sous un seuil. La solution alcaline grave les plaquettes de silicium pour texturiser les surfaces des plaquettes de silicium pour former un motif de pyramides (c.-à-d. un motif de texturisation) sur la surface des plaquettes de silicium. La technique à écoulement continu permet de rendre uniforme le motif de texturisation sur les surfaces des plaquettes traitées et la réflectance des plaquettes traitées parmi les différents lots de plaquettes de silicium qui sont submergées dans le mélange alcalin dans la chambre de traitement.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS ; CHEMISTRY ; GLASS ; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS ; METALLURGY ; MINERAL OR SLAG WOOL ; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS ; SURFACE TREATMENT OF GLASS</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131107&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013166481A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25555,76308</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131107&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013166481A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>CHEN, GIM-SYANG</creatorcontrib><creatorcontrib>RIEKER, JENNIFER</creatorcontrib><creatorcontrib>KASHKOUSH, ISMAIL</creatorcontrib><creatorcontrib>NEMETH, DENNIS</creatorcontrib><title>METHOD FOR CONSISTENTLY TEXTURIZING SILICON WAFERS DURING SOLAR CELL WET CHEMICAL PROCESSING</title><description>A method for consistently texturizing silicon wafers dating solar cell wet chemical processing. In one aspect, the invention includes submerging a batch of silicon wafers within a process chamber having an alkaline solution mixture therein. The invention utilizes a feed and bleed technique to bleed chemicals from the process chamber and introduce fresh chemicals into the process chamber to maintain chemical concentrations within a desired range and to maintain etch by-products below a threshold. The alkaline solution etches the silicon wafers to texturize the surfaces of the silicon wafers to form a pattern of pyramids ( i.e., texturization pattern) on the surface of the silicon wafers. The feed and bleed technique enables the textorization pattern on the surfaces of the processed wafers and the reflectance of the processed wafers to be consistent among different batches of silicon wafers that are submerged into the alkaline mixture in the process chamber.
L'invention concerne un procédé permettant de texturiser uniformément des plaquettes de silicium datant un traitement chimique par voie humide de cellules solaires. Dans un aspect, l'invention consiste à submerger un lot de plaquettes de silicium dans une chambre de traitement contenant un mélange de solution alcaline. L'invention utilise une technique à écoulement continu pour évacuer des produits chimiques de la chambre de traitement et introduire des produits chimiques frais dans la chambre de traitement pour maintenir les concentrations chimiques dans une plage désirée et pour maintenir les sous-produits de gravure sous un seuil. La solution alcaline grave les plaquettes de silicium pour texturiser les surfaces des plaquettes de silicium pour former un motif de pyramides (c.-à-d. un motif de texturisation) sur la surface des plaquettes de silicium. La technique à écoulement continu permet de rendre uniforme le motif de texturisation sur les surfaces des plaquettes traitées et la réflectance des plaquettes traitées parmi les différents lots de plaquettes de silicium qui sont submergées dans le mélange alcalin dans la chambre de traitement.</description><subject>CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>GLASS</subject><subject>JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>MINERAL OR SLAG WOOL</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF GLASS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNi8EKAiEURd20iOofHrQOsomhrTjPFBwNfWFFMAxhq6iB6f_JoA9odeHcc6bs2iJp34DyAaR30URCR_YMhCc6BnMxbg_RWFNOSEJhiNAU_qXeihKhtZCQQGpsjRQWDsFLjLEocza5948xL347Y0uFJPUqD68uj0N_y8_87pLfrHnF63q744JX_1kfzdozvQ</recordid><startdate>20131107</startdate><enddate>20131107</enddate><creator>CHEN, GIM-SYANG</creator><creator>RIEKER, JENNIFER</creator><creator>KASHKOUSH, ISMAIL</creator><creator>NEMETH, DENNIS</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20131107</creationdate><title>METHOD FOR CONSISTENTLY TEXTURIZING SILICON WAFERS DURING SOLAR CELL WET CHEMICAL PROCESSING</title><author>CHEN, GIM-SYANG ; RIEKER, JENNIFER ; KASHKOUSH, ISMAIL ; NEMETH, DENNIS</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013166481A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2013</creationdate><topic>CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>GLASS</topic><topic>JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>MINERAL OR SLAG WOOL</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF GLASS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>CHEN, GIM-SYANG</creatorcontrib><creatorcontrib>RIEKER, JENNIFER</creatorcontrib><creatorcontrib>KASHKOUSH, ISMAIL</creatorcontrib><creatorcontrib>NEMETH, DENNIS</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>CHEN, GIM-SYANG</au><au>RIEKER, JENNIFER</au><au>KASHKOUSH, ISMAIL</au><au>NEMETH, DENNIS</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR CONSISTENTLY TEXTURIZING SILICON WAFERS DURING SOLAR CELL WET CHEMICAL PROCESSING</title><date>2013-11-07</date><risdate>2013</risdate><abstract>A method for consistently texturizing silicon wafers dating solar cell wet chemical processing. In one aspect, the invention includes submerging a batch of silicon wafers within a process chamber having an alkaline solution mixture therein. The invention utilizes a feed and bleed technique to bleed chemicals from the process chamber and introduce fresh chemicals into the process chamber to maintain chemical concentrations within a desired range and to maintain etch by-products below a threshold. The alkaline solution etches the silicon wafers to texturize the surfaces of the silicon wafers to form a pattern of pyramids ( i.e., texturization pattern) on the surface of the silicon wafers. The feed and bleed technique enables the textorization pattern on the surfaces of the processed wafers and the reflectance of the processed wafers to be consistent among different batches of silicon wafers that are submerged into the alkaline mixture in the process chamber.
L'invention concerne un procédé permettant de texturiser uniformément des plaquettes de silicium datant un traitement chimique par voie humide de cellules solaires. Dans un aspect, l'invention consiste à submerger un lot de plaquettes de silicium dans une chambre de traitement contenant un mélange de solution alcaline. L'invention utilise une technique à écoulement continu pour évacuer des produits chimiques de la chambre de traitement et introduire des produits chimiques frais dans la chambre de traitement pour maintenir les concentrations chimiques dans une plage désirée et pour maintenir les sous-produits de gravure sous un seuil. La solution alcaline grave les plaquettes de silicium pour texturiser les surfaces des plaquettes de silicium pour former un motif de pyramides (c.-à-d. un motif de texturisation) sur la surface des plaquettes de silicium. La technique à écoulement continu permet de rendre uniforme le motif de texturisation sur les surfaces des plaquettes traitées et la réflectance des plaquettes traitées parmi les différents lots de plaquettes de silicium qui sont submergées dans le mélange alcalin dans la chambre de traitement.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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