CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
Disclosed is a contamination trap arrangement (300) configured to trap debris particles that are generated with the formation of a plasma within a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. The contamination trap comprises a vane structure (310) for trapping the debris pa...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | LUIJTEN, CARLO |
| description | Disclosed is a contamination trap arrangement (300) configured to trap debris particles that are generated with the formation of a plasma within a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. The contamination trap comprises a vane structure (310) for trapping the debris particles; a heating arrangement (330) for heating the vane structure, the heating arrangement being in thermal communication with the vane structure; a cooling arrangement (350) for transporting heat generated as a result of the plasma formation, away from the vane structure, and a gap (370) between the heating arrangement and the cooling arrangement. The cooling arrangement is in thermal communication with the vane structure via the heating arrangement and the gap and the contamination trap also comprises a heat transfer adjustment arrangement operable to adjust the heat transfer characteristics of a fluid inside of the gap by providing for controllable relative movement between the surfaces defining the gap.
L'invention concerne un agencement de piège à contamination (300) conçu pour piéger les particules de débris qui sont générées avec la formation d'un plasma dans une source de rayonnement configurée pour générer un rayonnement ultraviolet extrême. Le piège à contamination comprend une structure d'ailette (310) permettant de piéger les particules de débris ; un agencement chauffant (330) permettant de chauffer la structure d'ailette, l'agencement chauffant étant en communication thermique avec la structure d'ailette ; un agencement de refroidissement (350) permettant de transporter la chaleur générée en résultat de la formation de plasma, loin de la structure d'ailette, et un espace (370) entre l'agencement chauffant et l'agencement de refroidissement. L'agencement de refroidissement est en communication thermique avec la structure d'ailette via l'agencement chauffant et l'espace et le piège à contamination comprend aussi un agencement d'ajustement du transfert de chaleur servant à ajuster les caractéristiques de transfert de chaleur d'un fluide dans l'espace en assurant un mouvement relatif contrôlable entre les surfaces définissant l'espace. |
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L'invention concerne un agencement de piège à contamination (300) conçu pour piéger les particules de débris qui sont générées avec la formation d'un plasma dans une source de rayonnement configurée pour générer un rayonnement ultraviolet extrême. Le piège à contamination comprend une structure d'ailette (310) permettant de piéger les particules de débris ; un agencement chauffant (330) permettant de chauffer la structure d'ailette, l'agencement chauffant étant en communication thermique avec la structure d'ailette ; un agencement de refroidissement (350) permettant de transporter la chaleur générée en résultat de la formation de plasma, loin de la structure d'ailette, et un espace (370) entre l'agencement chauffant et l'agencement de refroidissement. L'agencement de refroidissement est en communication thermique avec la structure d'ailette via l'agencement chauffant et l'espace et le piège à contamination comprend aussi un agencement d'ajustement du transfert de chaleur servant à ajuster les caractéristiques de transfert de chaleur d'un fluide dans l'espace en assurant un mouvement relatif contrôlable entre les surfaces définissant l'espace.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131031&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013160083A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20131031&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013160083A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>LUIJTEN, CARLO</creatorcontrib><title>CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS</title><description>Disclosed is a contamination trap arrangement (300) configured to trap debris particles that are generated with the formation of a plasma within a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. The contamination trap comprises a vane structure (310) for trapping the debris particles; a heating arrangement (330) for heating the vane structure, the heating arrangement being in thermal communication with the vane structure; a cooling arrangement (350) for transporting heat generated as a result of the plasma formation, away from the vane structure, and a gap (370) between the heating arrangement and the cooling arrangement. The cooling arrangement is in thermal communication with the vane structure via the heating arrangement and the gap and the contamination trap also comprises a heat transfer adjustment arrangement operable to adjust the heat transfer characteristics of a fluid inside of the gap by providing for controllable relative movement between the surfaces defining the gap.
L'invention concerne un agencement de piège à contamination (300) conçu pour piéger les particules de débris qui sont générées avec la formation d'un plasma dans une source de rayonnement configurée pour générer un rayonnement ultraviolet extrême. Le piège à contamination comprend une structure d'ailette (310) permettant de piéger les particules de débris ; un agencement chauffant (330) permettant de chauffer la structure d'ailette, l'agencement chauffant étant en communication thermique avec la structure d'ailette ; un agencement de refroidissement (350) permettant de transporter la chaleur générée en résultat de la formation de plasma, loin de la structure d'ailette, et un espace (370) entre l'agencement chauffant et l'agencement de refroidissement. L'agencement de refroidissement est en communication thermique avec la structure d'ailette via l'agencement chauffant et l'espace et le piège à contamination comprend aussi un agencement d'ajustement du transfert de chaleur servant à ajuster les caractéristiques de transfert de chaleur d'un fluide dans l'espace en assurant un mouvement relatif contrôlable entre les surfaces définissant l'espace.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNB39vcLcfT19HMM8fT3UwgJcgxQcPMPUnBU8PEM8fB3B_I9PJ0VHAMCHIMcQ0KDeRhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_kYGhsaGZgYGFsaOhMXGqAKm7Jvg</recordid><startdate>20131031</startdate><enddate>20131031</enddate><creator>LUIJTEN, CARLO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20131031</creationdate><title>CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS</title><author>LUIJTEN, CARLO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013160083A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2013</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>LUIJTEN, CARLO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>LUIJTEN, CARLO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS</title><date>2013-10-31</date><risdate>2013</risdate><abstract>Disclosed is a contamination trap arrangement (300) configured to trap debris particles that are generated with the formation of a plasma within a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. The contamination trap comprises a vane structure (310) for trapping the debris particles; a heating arrangement (330) for heating the vane structure, the heating arrangement being in thermal communication with the vane structure; a cooling arrangement (350) for transporting heat generated as a result of the plasma formation, away from the vane structure, and a gap (370) between the heating arrangement and the cooling arrangement. The cooling arrangement is in thermal communication with the vane structure via the heating arrangement and the gap and the contamination trap also comprises a heat transfer adjustment arrangement operable to adjust the heat transfer characteristics of a fluid inside of the gap by providing for controllable relative movement between the surfaces defining the gap.
L'invention concerne un agencement de piège à contamination (300) conçu pour piéger les particules de débris qui sont générées avec la formation d'un plasma dans une source de rayonnement configurée pour générer un rayonnement ultraviolet extrême. Le piège à contamination comprend une structure d'ailette (310) permettant de piéger les particules de débris ; un agencement chauffant (330) permettant de chauffer la structure d'ailette, l'agencement chauffant étant en communication thermique avec la structure d'ailette ; un agencement de refroidissement (350) permettant de transporter la chaleur générée en résultat de la formation de plasma, loin de la structure d'ailette, et un espace (370) entre l'agencement chauffant et l'agencement de refroidissement. L'agencement de refroidissement est en communication thermique avec la structure d'ailette via l'agencement chauffant et l'espace et le piège à contamination comprend aussi un agencement d'ajustement du transfert de chaleur servant à ajuster les caractéristiques de transfert de chaleur d'un fluide dans l'espace en assurant un mouvement relatif contrôlable entre les surfaces définissant l'espace.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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