A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION
A process for producing polymeric films by applying a liquid composition onto a surface of a substrate under vacuum conditions in a vacuum chamber. The composition has a first component which is polymerizable or crosslinkable in the presence of a sufficient amount of an acid; and a cationic photoini...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | LAKSIN, MIKHAIL FERNANDES, SIDDHARTH DECKER, WOLFGANG |
| description | A process for producing polymeric films by applying a liquid composition onto a surface of a substrate under vacuum conditions in a vacuum chamber. The composition has a first component which is polymerizable or crosslinkable in the presence of a sufficient amount of an acid; and a cationic photoinitiator which generates an acid upon exposure to ultraviolet radiation, electron beam radiation or both to cause polymerizing or crosslinking of the first component. A gas which emits ultraviolet radiation upon exposure to electron beam radiation is introduced into the vacuum chamber. The composition and the gas are exposed to electron beam radiation to cause the cationic photoinitiator to generate an amount of an acid to cause polymerizing or crosslinking of the first component. The composition is exposed to both electron beam radiation and gas-generated ultraviolet radiation and cured.
La présente invention concerne un procédé de production de films polymères par l'application d'une composition liquide sur la surface d'un substrat, sous vide dans une chambre à vide. La composition contient un premier composant pouvant être polymérisé ou réticulé en présence d'une quantité suffisante d'acide ; et un photoinitiateur cationique qui génère un acide, quand il est exposé à un rayonnement ultraviolet, à un faisceau d'électrons ou deux, pour entraîner la polymérisation ou la réticulation du premier composant. Un gaz émettant un rayonnement ultraviolet quand il est exposé à un faisceau d'électrons est introduit dans la chambre à vide. La composition et le gaz sont exposés au faisceau d'électrons pour amener le photoinitiateur cationique à générer une quantité d'acide afin que le premier composant se polymérise ou se réticule. La composition est exposée à la fois à un faisceau d'électrons et à un rayonnement généré par un gaz et est durcie. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2013019555A3</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2013019555A3</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2013019555A33</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNy0ELgkAQBWAvHaL6DwNdEzTx0HFaR1tYd2R2LTqJxHaKEvT_E0bQtdN78L23jCaERliRc1CygGpF2woQFNcNO-01WzhegQwpL3MnrEGw0DjTDtAWs1fo4oosCXoqoDHoavxYa7zgWbMh_7uto8W9f4xh881VtC3Jq1MchlcXxqG_hWeYugvvkzRL0kOe55hl_63ePgk5UA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION</title><source>esp@cenet</source><creator>LAKSIN, MIKHAIL ; FERNANDES, SIDDHARTH ; DECKER, WOLFGANG</creator><creatorcontrib>LAKSIN, MIKHAIL ; FERNANDES, SIDDHARTH ; DECKER, WOLFGANG</creatorcontrib><description>A process for producing polymeric films by applying a liquid composition onto a surface of a substrate under vacuum conditions in a vacuum chamber. The composition has a first component which is polymerizable or crosslinkable in the presence of a sufficient amount of an acid; and a cationic photoinitiator which generates an acid upon exposure to ultraviolet radiation, electron beam radiation or both to cause polymerizing or crosslinking of the first component. A gas which emits ultraviolet radiation upon exposure to electron beam radiation is introduced into the vacuum chamber. The composition and the gas are exposed to electron beam radiation to cause the cationic photoinitiator to generate an amount of an acid to cause polymerizing or crosslinking of the first component. The composition is exposed to both electron beam radiation and gas-generated ultraviolet radiation and cured.
La présente invention concerne un procédé de production de films polymères par l'application d'une composition liquide sur la surface d'un substrat, sous vide dans une chambre à vide. La composition contient un premier composant pouvant être polymérisé ou réticulé en présence d'une quantité suffisante d'acide ; et un photoinitiateur cationique qui génère un acide, quand il est exposé à un rayonnement ultraviolet, à un faisceau d'électrons ou deux, pour entraîner la polymérisation ou la réticulation du premier composant. Un gaz émettant un rayonnement ultraviolet quand il est exposé à un faisceau d'électrons est introduit dans la chambre à vide. La composition et le gaz sont exposés au faisceau d'électrons pour amener le photoinitiateur cationique à générer une quantité d'acide afin que le premier composant se polymérise ou se réticule. La composition est exposée à la fois à un faisceau d'électrons et à un rayonnement généré par un gaz et est durcie.</description><language>eng ; fre</language><subject>AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G ; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ; CHEMISTRY ; COMPOSITIONS BASED THEREON ; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING ; METALLURGY ; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ; PERFORMING OPERATIONS ; PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL ; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL ; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP ; TRANSPORTING ; WORKING-UP</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20130418&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013019555A3$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20130418&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013019555A3$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>LAKSIN, MIKHAIL</creatorcontrib><creatorcontrib>FERNANDES, SIDDHARTH</creatorcontrib><creatorcontrib>DECKER, WOLFGANG</creatorcontrib><title>A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION</title><description>A process for producing polymeric films by applying a liquid composition onto a surface of a substrate under vacuum conditions in a vacuum chamber. The composition has a first component which is polymerizable or crosslinkable in the presence of a sufficient amount of an acid; and a cationic photoinitiator which generates an acid upon exposure to ultraviolet radiation, electron beam radiation or both to cause polymerizing or crosslinking of the first component. A gas which emits ultraviolet radiation upon exposure to electron beam radiation is introduced into the vacuum chamber. The composition and the gas are exposed to electron beam radiation to cause the cationic photoinitiator to generate an amount of an acid to cause polymerizing or crosslinking of the first component. The composition is exposed to both electron beam radiation and gas-generated ultraviolet radiation and cured.
La présente invention concerne un procédé de production de films polymères par l'application d'une composition liquide sur la surface d'un substrat, sous vide dans une chambre à vide. La composition contient un premier composant pouvant être polymérisé ou réticulé en présence d'une quantité suffisante d'acide ; et un photoinitiateur cationique qui génère un acide, quand il est exposé à un rayonnement ultraviolet, à un faisceau d'électrons ou deux, pour entraîner la polymérisation ou la réticulation du premier composant. Un gaz émettant un rayonnement ultraviolet quand il est exposé à un faisceau d'électrons est introduit dans la chambre à vide. La composition et le gaz sont exposés au faisceau d'électrons pour amener le photoinitiateur cationique à générer une quantité d'acide afin que le premier composant se polymérise ou se réticule. La composition est exposée à la fois à un faisceau d'électrons et à un rayonnement généré par un gaz et est durcie.</description><subject>AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G</subject><subject>APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COMPOSITIONS BASED THEREON</subject><subject>GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL</subject><subject>SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL</subject><subject>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><subject>TRANSPORTING</subject><subject>WORKING-UP</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNy0ELgkAQBWAvHaL6DwNdEzTx0HFaR1tYd2R2LTqJxHaKEvT_E0bQtdN78L23jCaERliRc1CygGpF2woQFNcNO-01WzhegQwpL3MnrEGw0DjTDtAWs1fo4oosCXoqoDHoavxYa7zgWbMh_7uto8W9f4xh881VtC3Jq1MchlcXxqG_hWeYugvvkzRL0kOe55hl_63ePgk5UA</recordid><startdate>20130418</startdate><enddate>20130418</enddate><creator>LAKSIN, MIKHAIL</creator><creator>FERNANDES, SIDDHARTH</creator><creator>DECKER, WOLFGANG</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20130418</creationdate><title>A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION</title><author>LAKSIN, MIKHAIL ; FERNANDES, SIDDHARTH ; DECKER, WOLFGANG</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013019555A33</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2013</creationdate><topic>AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G</topic><topic>APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COMPOSITIONS BASED THEREON</topic><topic>GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL</topic><topic>SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL</topic><topic>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</topic><topic>TRANSPORTING</topic><topic>WORKING-UP</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>LAKSIN, MIKHAIL</creatorcontrib><creatorcontrib>FERNANDES, SIDDHARTH</creatorcontrib><creatorcontrib>DECKER, WOLFGANG</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>LAKSIN, MIKHAIL</au><au>FERNANDES, SIDDHARTH</au><au>DECKER, WOLFGANG</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION</title><date>2013-04-18</date><risdate>2013</risdate><abstract>A process for producing polymeric films by applying a liquid composition onto a surface of a substrate under vacuum conditions in a vacuum chamber. The composition has a first component which is polymerizable or crosslinkable in the presence of a sufficient amount of an acid; and a cationic photoinitiator which generates an acid upon exposure to ultraviolet radiation, electron beam radiation or both to cause polymerizing or crosslinking of the first component. A gas which emits ultraviolet radiation upon exposure to electron beam radiation is introduced into the vacuum chamber. The composition and the gas are exposed to electron beam radiation to cause the cationic photoinitiator to generate an amount of an acid to cause polymerizing or crosslinking of the first component. The composition is exposed to both electron beam radiation and gas-generated ultraviolet radiation and cured.
La présente invention concerne un procédé de production de films polymères par l'application d'une composition liquide sur la surface d'un substrat, sous vide dans une chambre à vide. La composition contient un premier composant pouvant être polymérisé ou réticulé en présence d'une quantité suffisante d'acide ; et un photoinitiateur cationique qui génère un acide, quand il est exposé à un rayonnement ultraviolet, à un faisceau d'électrons ou deux, pour entraîner la polymérisation ou la réticulation du premier composant. Un gaz émettant un rayonnement ultraviolet quand il est exposé à un faisceau d'électrons est introduit dans la chambre à vide. La composition et le gaz sont exposés au faisceau d'électrons pour amener le photoinitiateur cationique à générer une quantité d'acide afin que le premier composant se polymérise ou se réticule. La composition est exposée à la fois à un faisceau d'électrons et à un rayonnement généré par un gaz et est durcie.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; fre |
| recordid | cdi_epo_espacenet_WO2013019555A3 |
| source | esp@cenet |
| subjects | AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PERFORMING OPERATIONS PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP TRANSPORTING WORKING-UP |
| title | A PROCESS FOR CURING A COMPOSITION BY ELECTRON BEAM RADIATION, AND BY GAS-GENERATED PLASMA AND ULTRAVIOLET RADIATION |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-21T05%3A22%3A53IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=LAKSIN,%20MIKHAIL&rft.date=2013-04-18&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2013019555A3%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |