SUBSTANTIALLY NON-OXIDIZING PLASMA TREATMENT DEVICES AND PROCESSES

Non-oxidizing plasma treatment devices for treating a semiconductor workpiece generally include a substantially non-oxidizing gas source; a plasma generating component in fluid communication with the non-oxidizing gas source; a process chamber in fluid communication with the plasma generating compon...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HUSEUNOVIC, ARMIN, LUO, SHIJIAN, WALDFRIED, CARLO, BERRY, IVAN, GEISSBUHLER, PHILLIP
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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