METHOD AND APPARATUS FOR REFURBISHING GAS DISTRIBUTION PLATE SURFACES
Embodiments described herein generally relate to methods and apparatus for refurbishing a gas distribution plate assembly utilized in a deposition chamber or etch chamber. In one embodiment, a method for refurbishing a gas distribution plate assembly is provided. The method includes urging a facepla...
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| Format: | Patent |
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| creator | DOAN, KHOI BANDA, SUMANTH DUAN, REN-GUAN DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR LU, WILLIAM MING-YE SUN, JENNIFER GRAVES, THOMAS BOYD, WENDELL GLEN, JR |
| description | Embodiments described herein generally relate to methods and apparatus for refurbishing a gas distribution plate assembly utilized in a deposition chamber or etch chamber. In one embodiment, a method for refurbishing a gas distribution plate assembly is provided. The method includes urging a faceplate of a gas distribution plate assembly against a polishing pad of a polishing device, the faceplate having a plurality of gas distribution holes disposed therein, providing relative motion between the faceplate and the polishing pad, and polishing the faceplate against the polishing pad.
L'invention porte sur la mise à niveau de surfaces de plaques de distribution de gaz. Les modes de réalisation décrits sont de façon générale relatifs à des procédés et appareils de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz utilisé dans une chambre de dépôt ou une chambre de gravure. Dans un mode de réalisation, est proposé un procédé de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz. Le procédé comprend la sollicitation d'une plaque de face d'un ensemble plaque de distribution de gaz contre un tampon de polissage d'un dispositif de polissage, la plaque de face ayant une pluralité de trous de distribution de gaz formés dans cette plaque, l'établissement d'un mouvement relatif entre la plaque de face et le tampon de polissage, et le polissage de la plaque de face contre le tampon de polissage. |
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L'invention porte sur la mise à niveau de surfaces de plaques de distribution de gaz. Les modes de réalisation décrits sont de façon générale relatifs à des procédés et appareils de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz utilisé dans une chambre de dépôt ou une chambre de gravure. Dans un mode de réalisation, est proposé un procédé de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz. Le procédé comprend la sollicitation d'une plaque de face d'un ensemble plaque de distribution de gaz contre un tampon de polissage d'un dispositif de polissage, la plaque de face ayant une pluralité de trous de distribution de gaz formés dans cette plaque, l'établissement d'un mouvement relatif entre la plaque de face et le tampon de polissage, et le polissage de la plaque de face contre le tampon de polissage.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2012</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121018&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2012142035A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76418</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121018&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2012142035A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>DOAN, KHOI</creatorcontrib><creatorcontrib>BANDA, SUMANTH</creatorcontrib><creatorcontrib>DUAN, REN-GUAN</creatorcontrib><creatorcontrib>DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR</creatorcontrib><creatorcontrib>LU, WILLIAM MING-YE</creatorcontrib><creatorcontrib>SUN, JENNIFER</creatorcontrib><creatorcontrib>GRAVES, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>BOYD, WENDELL GLEN, JR</creatorcontrib><title>METHOD AND APPARATUS FOR REFURBISHING GAS DISTRIBUTION PLATE SURFACES</title><description>Embodiments described herein generally relate to methods and apparatus for refurbishing a gas distribution plate assembly utilized in a deposition chamber or etch chamber. In one embodiment, a method for refurbishing a gas distribution plate assembly is provided. The method includes urging a faceplate of a gas distribution plate assembly against a polishing pad of a polishing device, the faceplate having a plurality of gas distribution holes disposed therein, providing relative motion between the faceplate and the polishing pad, and polishing the faceplate against the polishing pad.
L'invention porte sur la mise à niveau de surfaces de plaques de distribution de gaz. Les modes de réalisation décrits sont de façon générale relatifs à des procédés et appareils de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz utilisé dans une chambre de dépôt ou une chambre de gravure. Dans un mode de réalisation, est proposé un procédé de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz. Le procédé comprend la sollicitation d'une plaque de face d'un ensemble plaque de distribution de gaz contre un tampon de polissage d'un dispositif de polissage, la plaque de face ayant une pluralité de trous de distribution de gaz formés dans cette plaque, l'établissement d'un mouvement relatif entre la plaque de face et le tampon de polissage, et le polissage de la plaque de face contre le tampon de polissage.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2012</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHD1dQ3x8HdRcPQD4oAAxyDHkNBgBTf_IIUgV7fQICfPYA9PP3cFd8dgBRfP4JAgT6fQEE9_P4UAH8cQV4Xg0CA3R2fXYB4G1rTEnOJUXijNzaDs5hri7KGbWpAfn1pckJicmpdaEh_ub2RgaGRoYmRgbOpoZEycKgA_zC0H</recordid><startdate>20121018</startdate><enddate>20121018</enddate><creator>DOAN, KHOI</creator><creator>BANDA, SUMANTH</creator><creator>DUAN, REN-GUAN</creator><creator>DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR</creator><creator>LU, WILLIAM MING-YE</creator><creator>SUN, JENNIFER</creator><creator>GRAVES, THOMAS</creator><creator>BOYD, WENDELL GLEN, JR</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20121018</creationdate><title>METHOD AND APPARATUS FOR REFURBISHING GAS DISTRIBUTION PLATE SURFACES</title><author>DOAN, KHOI ; BANDA, SUMANTH ; DUAN, REN-GUAN ; DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR ; LU, WILLIAM MING-YE ; SUN, JENNIFER ; GRAVES, THOMAS ; BOYD, WENDELL GLEN, JR</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2012142035A23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2012</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>DOAN, KHOI</creatorcontrib><creatorcontrib>BANDA, SUMANTH</creatorcontrib><creatorcontrib>DUAN, REN-GUAN</creatorcontrib><creatorcontrib>DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR</creatorcontrib><creatorcontrib>LU, WILLIAM MING-YE</creatorcontrib><creatorcontrib>SUN, JENNIFER</creatorcontrib><creatorcontrib>GRAVES, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>BOYD, WENDELL GLEN, JR</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>DOAN, KHOI</au><au>BANDA, SUMANTH</au><au>DUAN, REN-GUAN</au><au>DUDLEY, RANDOLPH WILLIAM, JR</au><au>LU, WILLIAM MING-YE</au><au>SUN, JENNIFER</au><au>GRAVES, THOMAS</au><au>BOYD, WENDELL GLEN, JR</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD AND APPARATUS FOR REFURBISHING GAS DISTRIBUTION PLATE SURFACES</title><date>2012-10-18</date><risdate>2012</risdate><abstract>Embodiments described herein generally relate to methods and apparatus for refurbishing a gas distribution plate assembly utilized in a deposition chamber or etch chamber. In one embodiment, a method for refurbishing a gas distribution plate assembly is provided. The method includes urging a faceplate of a gas distribution plate assembly against a polishing pad of a polishing device, the faceplate having a plurality of gas distribution holes disposed therein, providing relative motion between the faceplate and the polishing pad, and polishing the faceplate against the polishing pad.
L'invention porte sur la mise à niveau de surfaces de plaques de distribution de gaz. Les modes de réalisation décrits sont de façon générale relatifs à des procédés et appareils de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz utilisé dans une chambre de dépôt ou une chambre de gravure. Dans un mode de réalisation, est proposé un procédé de mise à niveau d'un ensemble plaque de distribution de gaz. Le procédé comprend la sollicitation d'une plaque de face d'un ensemble plaque de distribution de gaz contre un tampon de polissage d'un dispositif de polissage, la plaque de face ayant une pluralité de trous de distribution de gaz formés dans cette plaque, l'établissement d'un mouvement relatif entre la plaque de face et le tampon de polissage, et le polissage de la plaque de face contre le tampon de polissage.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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