METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL
Provided is a method of manufacturing a solar cell, wherein a solar cell is manufactured by combining a damage removal etching process, a texturing process and an edge isolation process. The method is advantageous in that RIE and DRE are conducted, and then DRE/PSG and/or an edge isolation removal p...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | CHO, JAE EOCK KIM, GANG II HYUN, DEOC HWAN AHN, GUI RYONG RYU, HYUN CHEOL LEE, DONG HO LEE, YONG HWA |
| description | Provided is a method of manufacturing a solar cell, wherein a solar cell is manufactured by combining a damage removal etching process, a texturing process and an edge isolation process. The method is advantageous in that RIE and DRE are conducted, and then DRE/PSG and/or an edge isolation removal process are simultaneously conducted, so that the movement of a substrate (that is, a wafer) is minimized, thereby reducing the damage rate of the substrate.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cellule solaire, cette cellule solaire étant fabriquée par combinaison d'un procédé de gravure d'élimination des dégâts, d'un procédé de texturation et d'un procédé d'isolation des bords. Ce procédé est avantageux du fait qu'on procède à une gravure ionique réactive (RIE) et à une gravure d'élimination des dégâts (DRE), et qu'on effectue ensuite un procédé d'élimination par DRE/PSG et/ou isolation des bords de façon à minimiser le déplacement d'un substrat (à savoir, une galette), ce qui réduit le taux de dégâts du substrat. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2012134062A3</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2012134062A3</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2012134062A33</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZFD2dQ3x8HdRcPMPUvB19At1c3QOCQ3y9HNXCPb3cQxScHb18eFhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhkaGxiYGZkaOxsbEqQIA3l8jhQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL</title><source>esp@cenet</source><creator>CHO, JAE EOCK ; KIM, GANG II ; HYUN, DEOC HWAN ; AHN, GUI RYONG ; RYU, HYUN CHEOL ; LEE, DONG HO ; LEE, YONG HWA</creator><creatorcontrib>CHO, JAE EOCK ; KIM, GANG II ; HYUN, DEOC HWAN ; AHN, GUI RYONG ; RYU, HYUN CHEOL ; LEE, DONG HO ; LEE, YONG HWA</creatorcontrib><description>Provided is a method of manufacturing a solar cell, wherein a solar cell is manufactured by combining a damage removal etching process, a texturing process and an edge isolation process. The method is advantageous in that RIE and DRE are conducted, and then DRE/PSG and/or an edge isolation removal process are simultaneously conducted, so that the movement of a substrate (that is, a wafer) is minimized, thereby reducing the damage rate of the substrate.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cellule solaire, cette cellule solaire étant fabriquée par combinaison d'un procédé de gravure d'élimination des dégâts, d'un procédé de texturation et d'un procédé d'isolation des bords. Ce procédé est avantageux du fait qu'on procède à une gravure ionique réactive (RIE) et à une gravure d'élimination des dégâts (DRE), et qu'on effectue ensuite un procédé d'élimination par DRE/PSG et/ou isolation des bords de façon à minimiser le déplacement d'un substrat (à savoir, une galette), ce qui réduit le taux de dégâts du substrat.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2012</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121213&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2012134062A3$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121213&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2012134062A3$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>CHO, JAE EOCK</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM, GANG II</creatorcontrib><creatorcontrib>HYUN, DEOC HWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>AHN, GUI RYONG</creatorcontrib><creatorcontrib>RYU, HYUN CHEOL</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE, DONG HO</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE, YONG HWA</creatorcontrib><title>METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL</title><description>Provided is a method of manufacturing a solar cell, wherein a solar cell is manufactured by combining a damage removal etching process, a texturing process and an edge isolation process. The method is advantageous in that RIE and DRE are conducted, and then DRE/PSG and/or an edge isolation removal process are simultaneously conducted, so that the movement of a substrate (that is, a wafer) is minimized, thereby reducing the damage rate of the substrate.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cellule solaire, cette cellule solaire étant fabriquée par combinaison d'un procédé de gravure d'élimination des dégâts, d'un procédé de texturation et d'un procédé d'isolation des bords. Ce procédé est avantageux du fait qu'on procède à une gravure ionique réactive (RIE) et à une gravure d'élimination des dégâts (DRE), et qu'on effectue ensuite un procédé d'élimination par DRE/PSG et/ou isolation des bords de façon à minimiser le déplacement d'un substrat (à savoir, une galette), ce qui réduit le taux de dégâts du substrat.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2012</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFD2dQ3x8HdRcPMPUvB19At1c3QOCQ3y9HNXCPb3cQxScHb18eFhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhkaGxiYGZkaOxsbEqQIA3l8jhQ</recordid><startdate>20121213</startdate><enddate>20121213</enddate><creator>CHO, JAE EOCK</creator><creator>KIM, GANG II</creator><creator>HYUN, DEOC HWAN</creator><creator>AHN, GUI RYONG</creator><creator>RYU, HYUN CHEOL</creator><creator>LEE, DONG HO</creator><creator>LEE, YONG HWA</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20121213</creationdate><title>METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL</title><author>CHO, JAE EOCK ; KIM, GANG II ; HYUN, DEOC HWAN ; AHN, GUI RYONG ; RYU, HYUN CHEOL ; LEE, DONG HO ; LEE, YONG HWA</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2012134062A33</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2012</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>CHO, JAE EOCK</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM, GANG II</creatorcontrib><creatorcontrib>HYUN, DEOC HWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>AHN, GUI RYONG</creatorcontrib><creatorcontrib>RYU, HYUN CHEOL</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE, DONG HO</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE, YONG HWA</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>CHO, JAE EOCK</au><au>KIM, GANG II</au><au>HYUN, DEOC HWAN</au><au>AHN, GUI RYONG</au><au>RYU, HYUN CHEOL</au><au>LEE, DONG HO</au><au>LEE, YONG HWA</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL</title><date>2012-12-13</date><risdate>2012</risdate><abstract>Provided is a method of manufacturing a solar cell, wherein a solar cell is manufactured by combining a damage removal etching process, a texturing process and an edge isolation process. The method is advantageous in that RIE and DRE are conducted, and then DRE/PSG and/or an edge isolation removal process are simultaneously conducted, so that the movement of a substrate (that is, a wafer) is minimized, thereby reducing the damage rate of the substrate.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une cellule solaire, cette cellule solaire étant fabriquée par combinaison d'un procédé de gravure d'élimination des dégâts, d'un procédé de texturation et d'un procédé d'isolation des bords. Ce procédé est avantageux du fait qu'on procède à une gravure ionique réactive (RIE) et à une gravure d'élimination des dégâts (DRE), et qu'on effectue ensuite un procédé d'élimination par DRE/PSG et/ou isolation des bords de façon à minimiser le déplacement d'un substrat (à savoir, une galette), ce qui réduit le taux de dégâts du substrat.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; fre |
| recordid | cdi_epo_espacenet_WO2012134062A3 |
| source | esp@cenet |
| subjects | BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES |
| title | METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-28T23%3A01%3A13IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=CHO,%20JAE%20EOCK&rft.date=2012-12-13&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2012134062A3%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |