STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY
Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | HOULE, FRANCES, ANNE FURUKAWA, TAIICHI SWANSON, SALLY, ANN |
| description | Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
L'invention porte sur des compositions de revêtement appropriées pour des applications d'impression lithographique par ultraviolets qui comprennent au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant au moins deux groupes éther vinylique ; au moins un diluant comprenant un composé d'éther vinylique monofonctionnel ; au moins un générateur photoacide soluble dans l'un choisi ou les deux parmi le au moins un composé d'éther vinylique monofonctionnel et le au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant les au moins deux groupes éther vinylique ; et au moins un stabilisateur comprenant un composé ester substitué sélectivement par un substituant à une position ester ou à une position alpha et à la position ester. L'invention porte également sur des procédés d'impression. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2011020675A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2011020675A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2011020675A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHAPDnF08vTxjHINClZw8w9SCPP0i_RRcA3xcA1SCHIN9gwOAQn7hvo4hnj6-0HUePoGBHn6hSj4eIZ4-LsHOQZ4RPIwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUkvhwfyMDQ0MDIwMzc1NHQ2PiVAEA3nUuHQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY</title><source>esp@cenet</source><creator>HOULE, FRANCES, ANNE ; FURUKAWA, TAIICHI ; SWANSON, SALLY, ANN</creator><creatorcontrib>HOULE, FRANCES, ANNE ; FURUKAWA, TAIICHI ; SWANSON, SALLY, ANN</creatorcontrib><description>Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
L'invention porte sur des compositions de revêtement appropriées pour des applications d'impression lithographique par ultraviolets qui comprennent au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant au moins deux groupes éther vinylique ; au moins un diluant comprenant un composé d'éther vinylique monofonctionnel ; au moins un générateur photoacide soluble dans l'un choisi ou les deux parmi le au moins un composé d'éther vinylique monofonctionnel et le au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant les au moins deux groupes éther vinylique ; et au moins un stabilisateur comprenant un composé ester substitué sélectivement par un substituant à une position ester ou à une position alpha et à la position ester. L'invention porte également sur des procédés d'impression.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2011</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20110224&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2011020675A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20110224&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2011020675A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>HOULE, FRANCES, ANNE</creatorcontrib><creatorcontrib>FURUKAWA, TAIICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>SWANSON, SALLY, ANN</creatorcontrib><title>STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY</title><description>Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
L'invention porte sur des compositions de revêtement appropriées pour des applications d'impression lithographique par ultraviolets qui comprennent au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant au moins deux groupes éther vinylique ; au moins un diluant comprenant un composé d'éther vinylique monofonctionnel ; au moins un générateur photoacide soluble dans l'un choisi ou les deux parmi le au moins un composé d'éther vinylique monofonctionnel et le au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant les au moins deux groupes éther vinylique ; et au moins un stabilisateur comprenant un composé ester substitué sélectivement par un substituant à une position ester ou à une position alpha et à la position ester. L'invention porte également sur des procédés d'impression.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2011</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHAPDnF08vTxjHINClZw8w9SCPP0i_RRcA3xcA1SCHIN9gwOAQn7hvo4hnj6-0HUePoGBHn6hSj4eIZ4-LsHOQZ4RPIwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUkvhwfyMDQ0MDIwMzc1NHQ2PiVAEA3nUuHQ</recordid><startdate>20110224</startdate><enddate>20110224</enddate><creator>HOULE, FRANCES, ANNE</creator><creator>FURUKAWA, TAIICHI</creator><creator>SWANSON, SALLY, ANN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20110224</creationdate><title>STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY</title><author>HOULE, FRANCES, ANNE ; FURUKAWA, TAIICHI ; SWANSON, SALLY, ANN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2011020675A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2011</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>HOULE, FRANCES, ANNE</creatorcontrib><creatorcontrib>FURUKAWA, TAIICHI</creatorcontrib><creatorcontrib>SWANSON, SALLY, ANN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>HOULE, FRANCES, ANNE</au><au>FURUKAWA, TAIICHI</au><au>SWANSON, SALLY, ANN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY</title><date>2011-02-24</date><risdate>2011</risdate><abstract>Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
L'invention porte sur des compositions de revêtement appropriées pour des applications d'impression lithographique par ultraviolets qui comprennent au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant au moins deux groupes éther vinylique ; au moins un diluant comprenant un composé d'éther vinylique monofonctionnel ; au moins un générateur photoacide soluble dans l'un choisi ou les deux parmi le au moins un composé d'éther vinylique monofonctionnel et le au moins un agent de réticulation à base d'éther vinylique ayant les au moins deux groupes éther vinylique ; et au moins un stabilisateur comprenant un composé ester substitué sélectivement par un substituant à une position ester ou à une position alpha et à la position ester. L'invention porte également sur des procédés d'impression.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; fre |
| recordid | cdi_epo_espacenet_WO2011020675A1 |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS |
| title | STABILIZERS FOR VINYL ETHER RESIST FORMULATIONS FOR IMPRINT LITHOGRAPHY |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-04T23%3A51%3A20IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=HOULE,%20FRANCES,%20ANNE&rft.date=2011-02-24&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2011020675A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |