PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ANTIREFLECTION FILM AND ANTIREFLECTIVE HARD COATING FILM WHICH ARE PRODUCED USING SAME

Provided is a photosensitive resin composition which can be easily cured by means of active energy rays. The photosensitive composition can provide a cured product which exhibits high hardness, and excellent scratch resistance, adhesion, chemical resistance, stain resistance (such as removability of marker pen ink or fingerprints by rubbing), and transparency, and which has a low refractive index. Further, an antireflection film produced using the photosensitive resin composition exhibits a low reflectivity. Also provided are an antireflection film and an antireflective hard coating film, which have films prepared by curing the resin composition. A photosensitive resin composition which comprises (A) a polyfunctional (meth)acrylate having at least three (meth)acryloyl groups in the molecule, (B) colloidal silica that has a nanoporous structure with a mean particle diameter of 1 to 200 nm, and (C) a (meth)acryloyl-containing polysiloxane, and (D) a photo-radical polymerization initiator. La présente invention a pour objet une composition de résine photosensible qui peut être facilement durcie au moyen de rayonnements d'énergie active. La composition photosensible peut fournir un produit durci qui présente une dureté élevée, et d'excellentes résistance aux rayures, adhérence, résistance chimique, résistance aux taches (telle que la facilité d'enlèvement d'une encre de stylo marqueur ou de traces de doigts par frottage), et transparence, et qui possède un faible indice de réfraction. En outre, un film antireflet produit au moyen de la composition de résine photosensible présente une faible réflectivité. La présente invention concerne également un film antireflet et un film de revêtement dur antireflet, qui contiennent des films préparés par durcissement de la composition de résine. La présente invention concerne également une composition de résine photosensible qui comprend (A) un (méth)acrylate polyfonctionnel ayant au moins trois groupes (méth)acryloyle dans la molécule, (B) de la silice colloïdale qui possède une structure nanoporeuse avec un diamètre moyen des particules de 1 à 200 nm, et (C) un polysiloxane contenant un (méth)acryloyle, et (D) un initiateur de polymérisation photo-radicalaire.