SUBSTRATE SUPPORT HAVING SIDE GAS OUTLETS AND METHODS

A substrate support for a process chamber comprises an electrostatic chuck having a receiving surface to receive the substrate and a gas distributor baseplate below the electrostatic chuck. The gas distributor baseplate comprises a circumferential sidewall having a plurality of gas outlets that are...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VELLAIKAL, MANOJ, MCCLELLAND, SCOTT D, MARIN, JOSE ANTONIO, FOAD, MAJEED
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOTDIRECTED TO A PARTICULAR RESULT CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g.ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY GENERATION MACHINE TOOLS MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OFPARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR PERFORMING OPERATIONS SEMICONDUCTOR DEVICES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A substrate support for a process chamber comprises an electrostatic chuck having a receiving surface to receive the substrate and a gas distributor baseplate below the electrostatic chuck. The gas distributor baseplate comprises a circumferential sidewall having a plurality of gas outlets that are spaced apart from one another to introduce a process gas into the process chamber from around the perimeter of the substrate and in a radially outward facing direction. La présente invention a pour objet un support de substrat destiné à une chambre de traitement comprenant un mandrin électrostatique ayant une surface réceptrice pour recevoir le substrat et une plaque de base de distributeur de gaz au-dessous du mandrin électrostatique. La plaque de base de distributeur de gaz comprend une paroi latérale circonférentielle ayant une pluralité de sorties de gaz qui sont espacées les unes des autres pour introduire un gaz de traitement dans la chambre de traitement depuis l'espace autour du périmètre du substrat et dans une direction orientée radialement vers l'extérieur.