VACUUM PUMPING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING METHOD
Provided are a vacuum pumping device, a vacuum processing device, and a vacuum pumping method capable of preventing accumulation of ozone in a cryopump. A vacuum processing device (1) pertaining to an embodiment of the invention is equipped with a processing chamber (11) for vacuum processing, a pum...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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| creator | MASUDA, YUKIO FURUYA, SHINJI KOMURO, TAKU SAITO, KAZUYA ASARI, SHIN OSONO, SHUJI |
| description | Provided are a vacuum pumping device, a vacuum processing device, and a vacuum pumping method capable of preventing accumulation of ozone in a cryopump. A vacuum processing device (1) pertaining to an embodiment of the invention is equipped with a processing chamber (11) for vacuum processing, a pump unit for exhausting the processing chamber (11), and a heating unit (20). The pump unit has a cold trap (161) capable of collecting the exhaust gas and an exhaust pathway (13A) for leading the exhaust gas from the processing chamber (11) to the cold trap (161). The heating unit (20) pyrolyzes ozone contained in the exhaust gas while it is in the exhaust pathway (13A) on the way to the cold trap (161) from the processing chamber (11).
L'invention propose un dispositif de pompage à vide, un dispositif de traitement sous vide et un procédé de pompage à vide qui permettent d'empêcher l'accumulation d'ozone dans une pompe cryogénique. Selon un des modes de réalisation de l'invention, le dispositif de traitement sous vide (1) est équipé d'une chambre de traitement(11) pour le traitement sous vide, d'une unité de pompe pour mettre la chambre de traitement (11) sous vide et d'une unité de chauffage (20). Ladite unité de pompe comporte un piège à froid (161) permettant de collecter les gaz de fuite et un conduit d'évacuation (13A) qui dirige les gaz de fuite de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).Dans le conduit d'évacuation (13A), l'unité de chauffage (20) pyrolyse l'ozone contenue dans les gaz de fuite se dirigeant de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161). |
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L'invention propose un dispositif de pompage à vide, un dispositif de traitement sous vide et un procédé de pompage à vide qui permettent d'empêcher l'accumulation d'ozone dans une pompe cryogénique. Selon un des modes de réalisation de l'invention, le dispositif de traitement sous vide (1) est équipé d'une chambre de traitement(11) pour le traitement sous vide, d'une unité de pompe pour mettre la chambre de traitement (11) sous vide et d'une unité de chauffage (20). Ladite unité de pompe comporte un piège à froid (161) permettant de collecter les gaz de fuite et un conduit d'évacuation (13A) qui dirige les gaz de fuite de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).Dans le conduit d'évacuation (13A), l'unité de chauffage (20) pyrolyse l'ozone contenue dans les gaz de fuite se dirigeant de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>BLASTING ; HEATING ; LIGHTING ; MECHANICAL ENGINEERING ; POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS ; PUMPS ; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS ; WEAPONS</subject><creationdate>2010</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20100520&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2010055665A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76318</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20100520&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2010055665A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MASUDA, YUKIO</creatorcontrib><creatorcontrib>FURUYA, SHINJI</creatorcontrib><creatorcontrib>KOMURO, TAKU</creatorcontrib><creatorcontrib>SAITO, KAZUYA</creatorcontrib><creatorcontrib>ASARI, SHIN</creatorcontrib><creatorcontrib>OSONO, SHUJI</creatorcontrib><title>VACUUM PUMPING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING METHOD</title><description>Provided are a vacuum pumping device, a vacuum processing device, and a vacuum pumping method capable of preventing accumulation of ozone in a cryopump. A vacuum processing device (1) pertaining to an embodiment of the invention is equipped with a processing chamber (11) for vacuum processing, a pump unit for exhausting the processing chamber (11), and a heating unit (20). The pump unit has a cold trap (161) capable of collecting the exhaust gas and an exhaust pathway (13A) for leading the exhaust gas from the processing chamber (11) to the cold trap (161). The heating unit (20) pyrolyzes ozone contained in the exhaust gas while it is in the exhaust pathway (13A) on the way to the cold trap (161) from the processing chamber (11).
L'invention propose un dispositif de pompage à vide, un dispositif de traitement sous vide et un procédé de pompage à vide qui permettent d'empêcher l'accumulation d'ozone dans une pompe cryogénique. Selon un des modes de réalisation de l'invention, le dispositif de traitement sous vide (1) est équipé d'une chambre de traitement(11) pour le traitement sous vide, d'une unité de pompe pour mettre la chambre de traitement (11) sous vide et d'une unité de chauffage (20). Ladite unité de pompe comporte un piège à froid (161) permettant de collecter les gaz de fuite et un conduit d'évacuation (13A) qui dirige les gaz de fuite de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).Dans le conduit d'évacuation (13A), l'unité de chauffage (20) pyrolyse l'ozone contenue dans les gaz de fuite se dirigeant de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).</description><subject>BLASTING</subject><subject>HEATING</subject><subject>LIGHTING</subject><subject>MECHANICAL ENGINEERING</subject><subject>POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS</subject><subject>PUMPS</subject><subject>PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS</subject><subject>WEAPONS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2010</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPANc3QODfVVCAj1DfD0c1dwcQ3zdHbVUYAJB_k7uwYHI8s4-rlgkfV1DfHwd-FhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhgYGpqZmZqaOhsbEqQIAngsvGQ</recordid><startdate>20100520</startdate><enddate>20100520</enddate><creator>MASUDA, YUKIO</creator><creator>FURUYA, SHINJI</creator><creator>KOMURO, TAKU</creator><creator>SAITO, KAZUYA</creator><creator>ASARI, SHIN</creator><creator>OSONO, SHUJI</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20100520</creationdate><title>VACUUM PUMPING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING METHOD</title><author>MASUDA, YUKIO ; FURUYA, SHINJI ; KOMURO, TAKU ; SAITO, KAZUYA ; ASARI, SHIN ; OSONO, SHUJI</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2010055665A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2010</creationdate><topic>BLASTING</topic><topic>HEATING</topic><topic>LIGHTING</topic><topic>MECHANICAL ENGINEERING</topic><topic>POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS</topic><topic>PUMPS</topic><topic>PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS</topic><topic>WEAPONS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MASUDA, YUKIO</creatorcontrib><creatorcontrib>FURUYA, SHINJI</creatorcontrib><creatorcontrib>KOMURO, TAKU</creatorcontrib><creatorcontrib>SAITO, KAZUYA</creatorcontrib><creatorcontrib>ASARI, SHIN</creatorcontrib><creatorcontrib>OSONO, SHUJI</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MASUDA, YUKIO</au><au>FURUYA, SHINJI</au><au>KOMURO, TAKU</au><au>SAITO, KAZUYA</au><au>ASARI, SHIN</au><au>OSONO, SHUJI</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>VACUUM PUMPING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING METHOD</title><date>2010-05-20</date><risdate>2010</risdate><abstract>Provided are a vacuum pumping device, a vacuum processing device, and a vacuum pumping method capable of preventing accumulation of ozone in a cryopump. A vacuum processing device (1) pertaining to an embodiment of the invention is equipped with a processing chamber (11) for vacuum processing, a pump unit for exhausting the processing chamber (11), and a heating unit (20). The pump unit has a cold trap (161) capable of collecting the exhaust gas and an exhaust pathway (13A) for leading the exhaust gas from the processing chamber (11) to the cold trap (161). The heating unit (20) pyrolyzes ozone contained in the exhaust gas while it is in the exhaust pathway (13A) on the way to the cold trap (161) from the processing chamber (11).
L'invention propose un dispositif de pompage à vide, un dispositif de traitement sous vide et un procédé de pompage à vide qui permettent d'empêcher l'accumulation d'ozone dans une pompe cryogénique. Selon un des modes de réalisation de l'invention, le dispositif de traitement sous vide (1) est équipé d'une chambre de traitement(11) pour le traitement sous vide, d'une unité de pompe pour mettre la chambre de traitement (11) sous vide et d'une unité de chauffage (20). Ladite unité de pompe comporte un piège à froid (161) permettant de collecter les gaz de fuite et un conduit d'évacuation (13A) qui dirige les gaz de fuite de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).Dans le conduit d'évacuation (13A), l'unité de chauffage (20) pyrolyse l'ozone contenue dans les gaz de fuite se dirigeant de la chambre de traitement (11) vers le piège à froid (161).</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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