SUBSTRATE COMPRISING UNMATCHED REFRACTIVE INDEX PRIMER AT OPTICALLY SIGNIFICANT THICKNESS
A method of reducing optical fringing of a coated substrate is described. The method comprises providing a (e.g. light transmissive) substrate; providing a primer having an unmatched refractive index, and applying the primer to the substrate forming a primer layer having an optically significant thi...
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Format: | Patent |
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creator | RADCLIFFE, MARC, D TEBOW, CHRISTOPHER, P WALKER, CHRISTOPHER, B., JR PELLERITE, MARK, J |
description | A method of reducing optical fringing of a coated substrate is described. The method comprises providing a (e.g. light transmissive) substrate; providing a primer having an unmatched refractive index, and applying the primer to the substrate forming a primer layer having an optically significant thickness. The primer layer in combination with the substrate has a percent reflectance at a maximum at a wavelength of interest. Also described are articles comprising a substrate, a primer having an unmatched refractive index, a high refractive index layer, and optional low refractive index layer such as an antireflective film article.
L'invention concerne un procédé de réduction des franges de distorsion optique d'un substrat comportant un revêtement. Le procédé consiste à disposer un substrat (par ex. transmetteur de lumière); à disposer un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, et à appliquer le primaire au substrat en formant une couche de primaire présentant une épaisseur optiquement significative. La couche de primaire en combinaison avec le substrat présente un facteur de réflexion en pourcentage à un maximum à une longueur d'onde présentant un intérêt. L'invention concerne aussi des articles comprenant un substrat, un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, une couche à indice de réfraction élevé, et une couche optionnelle à indice de réfraction bas, comme un article à pellicule antireflets. |
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L'invention concerne un procédé de réduction des franges de distorsion optique d'un substrat comportant un revêtement. Le procédé consiste à disposer un substrat (par ex. transmetteur de lumière); à disposer un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, et à appliquer le primaire au substrat en formant une couche de primaire présentant une épaisseur optiquement significative. La couche de primaire en combinaison avec le substrat présente un facteur de réflexion en pourcentage à un maximum à une longueur d'onde présentant un intérêt. L'invention concerne aussi des articles comprenant un substrat, un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, une couche à indice de réfraction élevé, et une couche optionnelle à indice de réfraction bas, comme un article à pellicule antireflets.</description><language>eng ; fre</language><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; PHYSICS</subject><creationdate>2010</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20100408&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2010039564A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20100408&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2010039564A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>RADCLIFFE, MARC, D</creatorcontrib><creatorcontrib>TEBOW, CHRISTOPHER, P</creatorcontrib><creatorcontrib>WALKER, CHRISTOPHER, B., JR</creatorcontrib><creatorcontrib>PELLERITE, MARK, J</creatorcontrib><title>SUBSTRATE COMPRISING UNMATCHED REFRACTIVE INDEX PRIMER AT OPTICALLY SIGNIFICANT THICKNESS</title><description>A method of reducing optical fringing of a coated substrate is described. The method comprises providing a (e.g. light transmissive) substrate; providing a primer having an unmatched refractive index, and applying the primer to the substrate forming a primer layer having an optically significant thickness. The primer layer in combination with the substrate has a percent reflectance at a maximum at a wavelength of interest. Also described are articles comprising a substrate, a primer having an unmatched refractive index, a high refractive index layer, and optional low refractive index layer such as an antireflective film article.
L'invention concerne un procédé de réduction des franges de distorsion optique d'un substrat comportant un revêtement. Le procédé consiste à disposer un substrat (par ex. transmetteur de lumière); à disposer un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, et à appliquer le primaire au substrat en formant une couche de primaire présentant une épaisseur optiquement significative. La couche de primaire en combinaison avec le substrat présente un facteur de réflexion en pourcentage à un maximum à une longueur d'onde présentant un intérêt. L'invention concerne aussi des articles comprenant un substrat, un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, une couche à indice de réfraction élevé, et une couche optionnelle à indice de réfraction bas, comme un article à pellicule antireflets.</description><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2010</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjLEKwjAUALM4iPoPD5yF1qrgGNPX9mGTlORV7VSKxEm0UP8fM_gBTsfBcXPR-fbk2UlGUFY3jjyZElqjJasKc3BYOKmYLghkcrxBTDQ6kAy2YVKyrjvwVBoqohgGrkidDXq_FLPH8JzC6seFWBcYp5swvvswjcM9vMKnv9ptkiZJdtwfdjLN_qu-M-4y8A</recordid><startdate>20100408</startdate><enddate>20100408</enddate><creator>RADCLIFFE, MARC, D</creator><creator>TEBOW, CHRISTOPHER, P</creator><creator>WALKER, CHRISTOPHER, B., JR</creator><creator>PELLERITE, MARK, J</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20100408</creationdate><title>SUBSTRATE COMPRISING UNMATCHED REFRACTIVE INDEX PRIMER AT OPTICALLY SIGNIFICANT THICKNESS</title><author>RADCLIFFE, MARC, D ; TEBOW, CHRISTOPHER, P ; WALKER, CHRISTOPHER, B., JR ; PELLERITE, MARK, J</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2010039564A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2010</creationdate><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>RADCLIFFE, MARC, D</creatorcontrib><creatorcontrib>TEBOW, CHRISTOPHER, P</creatorcontrib><creatorcontrib>WALKER, CHRISTOPHER, B., JR</creatorcontrib><creatorcontrib>PELLERITE, MARK, J</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>RADCLIFFE, MARC, D</au><au>TEBOW, CHRISTOPHER, P</au><au>WALKER, CHRISTOPHER, B., JR</au><au>PELLERITE, MARK, J</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SUBSTRATE COMPRISING UNMATCHED REFRACTIVE INDEX PRIMER AT OPTICALLY SIGNIFICANT THICKNESS</title><date>2010-04-08</date><risdate>2010</risdate><abstract>A method of reducing optical fringing of a coated substrate is described. The method comprises providing a (e.g. light transmissive) substrate; providing a primer having an unmatched refractive index, and applying the primer to the substrate forming a primer layer having an optically significant thickness. The primer layer in combination with the substrate has a percent reflectance at a maximum at a wavelength of interest. Also described are articles comprising a substrate, a primer having an unmatched refractive index, a high refractive index layer, and optional low refractive index layer such as an antireflective film article.
L'invention concerne un procédé de réduction des franges de distorsion optique d'un substrat comportant un revêtement. Le procédé consiste à disposer un substrat (par ex. transmetteur de lumière); à disposer un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, et à appliquer le primaire au substrat en formant une couche de primaire présentant une épaisseur optiquement significative. La couche de primaire en combinaison avec le substrat présente un facteur de réflexion en pourcentage à un maximum à une longueur d'onde présentant un intérêt. L'invention concerne aussi des articles comprenant un substrat, un primaire présentant un indice de réfraction désassorti, une couche à indice de réfraction élevé, et une couche optionnelle à indice de réfraction bas, comme un article à pellicule antireflets.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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