MULTIBEAM SYSTEM
A multibeam system in which a charged particle beam and one or more additional beams can be directed to the target within a single vacuum chamber. A first beam column preferably produces a beam for rapid processing, and a second beam column produces a beam for more precise processing. A third beam c...
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| Format: | Patent |
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| creator | SMITH, NOEL NARUM, DAVID, H UTLAUT, MARK W TUGGLE, DAVID SCIPIONI, LAWRENCE MILLER, TOM TESCH, PAUL, P |
| description | A multibeam system in which a charged particle beam and one or more additional beams can be directed to the target within a single vacuum chamber. A first beam column preferably produces a beam for rapid processing, and a second beam column produces a beam for more precise processing. A third beam column can be used to produce a beam useful for forming an image of the sample while producing little or no change in the sample.
Système à faisceaux multiples dans lequel un faisceau de particules chargé et un ou plusieurs faisceaux supplémentaires peuvent être dirigés sur la cible dans une chambre à vide unique. Une première colonne de faisceau produit de préférence un faisceau pour traitement rapide, et une deuxième colonne de faisceau produit un faisceau pour traitement plus précis. Une troisième colonne de faisceau peut être utilisée pour produire un faisceau utile pour la formation d'une image de l'échantillon tout en produisant peu ou pas de modification dans l'échantillon. |
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Système à faisceaux multiples dans lequel un faisceau de particules chargé et un ou plusieurs faisceaux supplémentaires peuvent être dirigés sur la cible dans une chambre à vide unique. Une première colonne de faisceau produit de préférence un faisceau pour traitement rapide, et une deuxième colonne de faisceau produit un faisceau pour traitement plus précis. Une troisième colonne de faisceau peut être utilisée pour produire un faisceau utile pour la formation d'une image de l'échantillon tout en produisant peu ou pas de modification dans l'échantillon.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2009</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20091203&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2009089499A4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25562,76317</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20091203&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2009089499A4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SMITH, NOEL</creatorcontrib><creatorcontrib>NARUM, DAVID, H</creatorcontrib><creatorcontrib>UTLAUT, MARK W</creatorcontrib><creatorcontrib>TUGGLE, DAVID</creatorcontrib><creatorcontrib>SCIPIONI, LAWRENCE</creatorcontrib><creatorcontrib>MILLER, TOM</creatorcontrib><creatorcontrib>TESCH, PAUL, P</creatorcontrib><title>MULTIBEAM SYSTEM</title><description>A multibeam system in which a charged particle beam and one or more additional beams can be directed to the target within a single vacuum chamber. A first beam column preferably produces a beam for rapid processing, and a second beam column produces a beam for more precise processing. A third beam column can be used to produce a beam useful for forming an image of the sample while producing little or no change in the sample.
Système à faisceaux multiples dans lequel un faisceau de particules chargé et un ou plusieurs faisceaux supplémentaires peuvent être dirigés sur la cible dans une chambre à vide unique. Une première colonne de faisceau produit de préférence un faisceau pour traitement rapide, et une deuxième colonne de faisceau produit un faisceau pour traitement plus précis. Une troisième colonne de faisceau peut être utilisée pour produire un faisceau utile pour la formation d'une image de l'échantillon tout en produisant peu ou pas de modification dans l'échantillon.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2009</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBDwDfUJ8XRydfRVCI4MDnH15WFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgYGlgYWliaWlo4mxsSpAgCJiB62</recordid><startdate>20091203</startdate><enddate>20091203</enddate><creator>SMITH, NOEL</creator><creator>NARUM, DAVID, H</creator><creator>UTLAUT, MARK W</creator><creator>TUGGLE, DAVID</creator><creator>SCIPIONI, LAWRENCE</creator><creator>MILLER, TOM</creator><creator>TESCH, PAUL, P</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20091203</creationdate><title>MULTIBEAM SYSTEM</title><author>SMITH, NOEL ; NARUM, DAVID, H ; UTLAUT, MARK W ; TUGGLE, DAVID ; SCIPIONI, LAWRENCE ; MILLER, TOM ; TESCH, PAUL, P</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2009089499A43</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2009</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SMITH, NOEL</creatorcontrib><creatorcontrib>NARUM, DAVID, H</creatorcontrib><creatorcontrib>UTLAUT, MARK W</creatorcontrib><creatorcontrib>TUGGLE, DAVID</creatorcontrib><creatorcontrib>SCIPIONI, LAWRENCE</creatorcontrib><creatorcontrib>MILLER, TOM</creatorcontrib><creatorcontrib>TESCH, PAUL, P</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SMITH, NOEL</au><au>NARUM, DAVID, H</au><au>UTLAUT, MARK W</au><au>TUGGLE, DAVID</au><au>SCIPIONI, LAWRENCE</au><au>MILLER, TOM</au><au>TESCH, PAUL, P</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>MULTIBEAM SYSTEM</title><date>2009-12-03</date><risdate>2009</risdate><abstract>A multibeam system in which a charged particle beam and one or more additional beams can be directed to the target within a single vacuum chamber. A first beam column preferably produces a beam for rapid processing, and a second beam column produces a beam for more precise processing. A third beam column can be used to produce a beam useful for forming an image of the sample while producing little or no change in the sample.
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