DIAMOND FILM DEPOSITION
Diamond material made by a hot filament chemical vapor deposition process, providing large film area, good growth rate, phase purity, small average grain size, smooth surfaces, and other useful properties. Low substrate temperatures can be used. Control of process variables such as pressure and fila...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Diamond material made by a hot filament chemical vapor deposition process, providing large film area, good growth rate, phase purity, small average grain size, smooth surfaces, and other useful properties. Low substrate temperatures can be used. Control of process variables such as pressure and filament temperature and reactant ratio allow control of the diamond properties. Applications include MEMS, wear resistance low friction coatings, biosensors, and electronics.
L'invention concerne un matériau de diamant préparé par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur à filament chaud, formant des surfaces lisses de grande superficie de film, bonne vitesse de croissance, pureté de phase, petite taille moyenne de grain, et d'autres propriétés utiles. De faibles températures de substrat peuvent être utilisées. Une régulation des variables du procédé telles que la pression et la température de filament et le rapport de réactif permet une régulation des propriétés du diamant. Des applications comprennent MEMS, revêtement à faible frottement à résistance à l'usure, biocapteurs et électroniques. |
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