METHOD AND APPARATUS FOR DESIGNING AN INTEGRATED CIRCUIT

Method (10) and apparatus for designing an integrated circuit by calculating (20) an optimised reticle layout design from an IC layout design and a model describing an optical system for transferring the IC layout design onto a semiconductor wafer using a reticle, wherein the IC layout design comprises features defined by a plurality of boundaries (110). Approximating (30, 40, 50) the plurality of boundaries (110) to generate an approximated IC layout design (130) suitable for the manufacture of the IC. Performing OPC simulation on at least a portion of the approximated IC layout design. La présente invention concerne un procédé (10)et un appareil permettant la conception d'un circuit intégré par le calcul (20) d'une conception de topographie de réticule optimisée à partir d'une conception de topographie de circuit intégré et d'un modèle décrivant un système optique pour transférer la conception de topographie de circuit intégré sur une tranche semi-conductrice au moyen d'un réticule, ladite conception de topographie de circuit intégré comportant des éléments définis par une pluralité de limites (110); l'approximation (30, 40, 50) de la pluralité de limites(110)pour générer une conception de topographie d'approximation (130) apte à la fabrication du circuit intégré; la réalisation d'une simulation de correction de proximité optique sur au moins une partie de la conception de topographie de circuit intégré d'approximation.