METHOD FOR REVISING/REPAIRING A LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE
A method for revising/iepaiiiiig A projection objective of a lithography projection exposure apparatus (10), the projection objective comprising a plurality of optical elements between an object plane (12) and an image plane (16), the plurality of optical elements comprising at least one first optic...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | HAEUSSLER, JOCHEN PETASCH, THOMAS ROGALSKY, OLAF BITTNER, BORIS |
| description | A method for revising/iepaiiiiig A projection objective of a lithography projection exposure apparatus (10), the projection objective comprising a plurality of optical elements between an object plane (12) and an image plane (16), the plurality of optical elements comprising at least one first optical element having a refractive power, comprises, without exchanging all of the optical elements, removing the at least one first optical element from the projection objective in the field, inserting at least one first spare optical element into the projection objective at the location of the at least one first optical element, and adjusting an image quality of the projection objective to a desired quality.
Procédé de révision/réparation d'un objectif de projection d'un appareil d'exposition de projection de lithographie (10), l'objectif de projection comprenant une pluralité d'éléments optiques entre une surface d'objet (12) et une surface d'image (16), la pluralité d'éléments optiques comprenant au moins un premier élément optique ayant une puissance optique. Ce procédé comprend, sans échanger la totalité des éléments optiques, le retrait d'au moins un premier élément optique de l'objectif de projection dans le champ, l'insertion d'au moins un premier élément optique de rechange dans l'objectif de projection à l'emplacement au moins du premier élément optique et l'ajustement d'une qualité d'image de l'objectif de projection à la qualité désirée. |
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Procédé de révision/réparation d'un objectif de projection d'un appareil d'exposition de projection de lithographie (10), l'objectif de projection comprenant une pluralité d'éléments optiques entre une surface d'objet (12) et une surface d'image (16), la pluralité d'éléments optiques comprenant au moins un premier élément optique ayant une puissance optique. Ce procédé comprend, sans échanger la totalité des éléments optiques, le retrait d'au moins un premier élément optique de l'objectif de projection dans le champ, l'insertion d'au moins un premier élément optique de rechange dans l'objectif de projection à l'emplacement au moins du premier élément optique et l'ajustement d'une qualité d'image de l'objectif de projection à la qualité désirée.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2008</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20080110&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2008003442A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20080110&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2008003442A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>HAEUSSLER, JOCHEN</creatorcontrib><creatorcontrib>PETASCH, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>ROGALSKY, OLAF</creatorcontrib><creatorcontrib>BITTNER, BORIS</creatorcontrib><title>METHOD FOR REVISING/REPAIRING A LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE</title><description>A method for revising/iepaiiiiig A projection objective of a lithography projection exposure apparatus (10), the projection objective comprising a plurality of optical elements between an object plane (12) and an image plane (16), the plurality of optical elements comprising at least one first optical element having a refractive power, comprises, without exchanging all of the optical elements, removing the at least one first optical element from the projection objective in the field, inserting at least one first spare optical element into the projection objective at the location of the at least one first optical element, and adjusting an image quality of the projection objective to a desired quality.
Procédé de révision/réparation d'un objectif de projection d'un appareil d'exposition de projection de lithographie (10), l'objectif de projection comprenant une pluralité d'éléments optiques entre une surface d'objet (12) et une surface d'image (16), la pluralité d'éléments optiques comprenant au moins un premier élément optique ayant une puissance optique. Ce procédé comprend, sans échanger la totalité des éléments optiques, le retrait d'au moins un premier élément optique de l'objectif de projection dans le champ, l'insertion d'au moins un premier élément optique de rechange dans l'objectif de projection à l'emplacement au moins du premier élément optique et l'ajustement d'une qualité d'image de l'objectif de projection à la qualité désirée.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2008</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHD0dQ3x8HdRcPMPUghyDfMM9vRz1w9yDXD0DAKyFBwVfDyB8u5BjgEens4KAUH-Xq7OIZ7-fgr-TmBWmCsPA2taYk5xKi-U5mZQdnMNcfbQTS3Ij08tLkhMTs1LLYkP9zcyMLAwMDA2MTFyNDQmThUAlyAr_A</recordid><startdate>20080110</startdate><enddate>20080110</enddate><creator>HAEUSSLER, JOCHEN</creator><creator>PETASCH, THOMAS</creator><creator>ROGALSKY, OLAF</creator><creator>BITTNER, BORIS</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20080110</creationdate><title>METHOD FOR REVISING/REPAIRING A LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE</title><author>HAEUSSLER, JOCHEN ; PETASCH, THOMAS ; ROGALSKY, OLAF ; BITTNER, BORIS</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2008003442A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2008</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>HAEUSSLER, JOCHEN</creatorcontrib><creatorcontrib>PETASCH, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>ROGALSKY, OLAF</creatorcontrib><creatorcontrib>BITTNER, BORIS</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>HAEUSSLER, JOCHEN</au><au>PETASCH, THOMAS</au><au>ROGALSKY, OLAF</au><au>BITTNER, BORIS</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR REVISING/REPAIRING A LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE</title><date>2008-01-10</date><risdate>2008</risdate><abstract>A method for revising/iepaiiiiig A projection objective of a lithography projection exposure apparatus (10), the projection objective comprising a plurality of optical elements between an object plane (12) and an image plane (16), the plurality of optical elements comprising at least one first optical element having a refractive power, comprises, without exchanging all of the optical elements, removing the at least one first optical element from the projection objective in the field, inserting at least one first spare optical element into the projection objective at the location of the at least one first optical element, and adjusting an image quality of the projection objective to a desired quality.
Procédé de révision/réparation d'un objectif de projection d'un appareil d'exposition de projection de lithographie (10), l'objectif de projection comprenant une pluralité d'éléments optiques entre une surface d'objet (12) et une surface d'image (16), la pluralité d'éléments optiques comprenant au moins un premier élément optique ayant une puissance optique. Ce procédé comprend, sans échanger la totalité des éléments optiques, le retrait d'au moins un premier élément optique de l'objectif de projection dans le champ, l'insertion d'au moins un premier élément optique de rechange dans l'objectif de projection à l'emplacement au moins du premier élément optique et l'ajustement d'une qualité d'image de l'objectif de projection à la qualité désirée.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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