INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE
The invention relates to an inspection apparatus and a method for inspecting a sample (e.g. a lithographic patterning device or mask) for anomalies e.g. contamination particles or defects, wherein said apparatus comprises: a support structure for supporting the sample, and; a radiation system constr...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN VAN BRUG, HEDSER |
| description | The invention relates to an inspection apparatus and a method for inspecting a sample (e.g. a lithographic patterning device or mask) for anomalies e.g. contamination particles or defects, wherein said apparatus comprises: a support structure for supporting the sample, and; a radiation system constructed and arranged for radiating a sample with a radiation beam; and, a detection system constructed and arranged to detect radiation that is reflected from the sample with a detector, wherein the radiation and detection system are provided with a first and second polarizer respectively.
L'invention concerne un appareil d'inspection et un procédé servant à inspecter un échantillon (par ex. un dispositif de traçage de motif ou un masque pour lithographie) pour déterminer la présence ou l'absence d'anomalies, par ex. des particules de contamination ou des défauts, ledit appareil comprenant : une structure de support servant à supporter l'échantillon et ; un système de rayonnement construit et disposé pour irradier l'échantillon avec un faisceau de rayonnement ; et un système de détection construit et disposé pour détecter le rayonnement qui est réfléchi par l'échantillon avec un détecteur, les systèmes de rayonnement et de détection comportant respectivement un premier et un second polariseurs. |
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L'invention concerne un appareil d'inspection et un procédé servant à inspecter un échantillon (par ex. un dispositif de traçage de motif ou un masque pour lithographie) pour déterminer la présence ou l'absence d'anomalies, par ex. des particules de contamination ou des défauts, ledit appareil comprenant : une structure de support servant à supporter l'échantillon et ; un système de rayonnement construit et disposé pour irradier l'échantillon avec un faisceau de rayonnement ; et un système de détection construit et disposé pour détecter le rayonnement qui est réfléchi par l'échantillon avec un détecteur, les systèmes de rayonnement et de détection comportant respectivement un premier et un second polariseurs.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2007</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20070705&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2007075082A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20070705&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2007075082A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN BRUG, HEDSER</creatorcontrib><title>INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE</title><description>The invention relates to an inspection apparatus and a method for inspecting a sample (e.g. a lithographic patterning device or mask) for anomalies e.g. contamination particles or defects, wherein said apparatus comprises: a support structure for supporting the sample, and; a radiation system constructed and arranged for radiating a sample with a radiation beam; and, a detection system constructed and arranged to detect radiation that is reflected from the sample with a detector, wherein the radiation and detection system are provided with a first and second polarizer respectively.
L'invention concerne un appareil d'inspection et un procédé servant à inspecter un échantillon (par ex. un dispositif de traçage de motif ou un masque pour lithographie) pour déterminer la présence ou l'absence d'anomalies, par ex. des particules de contamination ou des défauts, ledit appareil comprenant : une structure de support servant à supporter l'échantillon et ; un système de rayonnement construit et disposé pour irradier l'échantillon avec un faisceau de rayonnement ; et un système de détection construit et disposé pour détecter le rayonnement qui est réfléchi par l'échantillon avec un détecteur, les systèmes de rayonnement et de détection comportant respectivement un premier et un second polariseurs.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2007</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjD0LwjAURbM4iPofHrgqxIrU9dG8NoHmgyS1OJUicRItVP-_HcTJwenCuefeOXspExwVUVkD6Bx6jE3YQK2itJVHJ1UB4RwiaXDenpQgAe1UQpQEv7aARgCCpulAQGn91zLVxANqV9OSza79bUyrTy7YuqRYyG0aHl0ah_6S7unZtTbjPOf5gR8z3O3_s94FTzpA</recordid><startdate>20070705</startdate><enddate>20070705</enddate><creator>BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN</creator><creator>VAN BRUG, HEDSER</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20070705</creationdate><title>INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE</title><author>BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN ; VAN BRUG, HEDSER</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2007075082A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2007</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN BRUG, HEDSER</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BROUWER, EGBERT, ANNE, MARTIJN</au><au>VAN BRUG, HEDSER</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE</title><date>2007-07-05</date><risdate>2007</risdate><abstract>The invention relates to an inspection apparatus and a method for inspecting a sample (e.g. a lithographic patterning device or mask) for anomalies e.g. contamination particles or defects, wherein said apparatus comprises: a support structure for supporting the sample, and; a radiation system constructed and arranged for radiating a sample with a radiation beam; and, a detection system constructed and arranged to detect radiation that is reflected from the sample with a detector, wherein the radiation and detection system are provided with a first and second polarizer respectively.
L'invention concerne un appareil d'inspection et un procédé servant à inspecter un échantillon (par ex. un dispositif de traçage de motif ou un masque pour lithographie) pour déterminer la présence ou l'absence d'anomalies, par ex. des particules de contamination ou des défauts, ledit appareil comprenant : une structure de support servant à supporter l'échantillon et ; un système de rayonnement construit et disposé pour irradier l'échantillon avec un faisceau de rayonnement ; et un système de détection construit et disposé pour détecter le rayonnement qui est réfléchi par l'échantillon avec un détecteur, les systèmes de rayonnement et de détection comportant respectivement un premier et un second polariseurs.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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