METHOD FOR REGULATING ELECTRON BEAM OUTPUT OF ELECTRON SOURCES

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung der Elektronenstrahlleistung von Elektronenquellen im Nennleistungsbereich von Null bis 1200 kW. Ihr liegt die Aufgabe zugrunde, eine automatische kontinuierliche Leistungsregelung über den gesamten Leistungsbereich zu schaffen, die eine gute Fokussi...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	NOBIS, REINHARD, HAUFE, DIETRICH, NEUMANN, MATTHIAS, DEUS, CARSTEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
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creator	NOBIS, REINHARD HAUFE, DIETRICH NEUMANN, MATTHIAS DEUS, CARSTEN
description	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung der Elektronenstrahlleistung von Elektronenquellen im Nennleistungsbereich von Null bis 1200 kW. Ihr liegt die Aufgabe zugrunde, eine automatische kontinuierliche Leistungsregelung über den gesamten Leistungsbereich zu schaffen, die eine gute Fokussierbarkeit des Elektronenstrahles und die Minimierung der internen Elektronenstrahlverluste ermöglicht. Erfindungsgemäss wird die Aufgabe durch die Regelung von mindestens zwei unabhängigen Stellgliedern gelöst, welche jeweils einen der Parameter Katodentemperatur, Katodenspannung, Fokussierelektrodenspannung oder Katoden-Anoden-Abstand als Stellparameter verändern. The invention relates to a method for regulating the electron beam output of electron sources in the rated power range of 0 to 1200 kW. The aim of the invention is to produce automatically continuous power regulation within the entire power range resulting in good focusing properties of the electron beams and minimalising internal electron beam losses. This is achieved by regulating at least two independent actuators which respectively modify one of the following parameters such as cathode temperature, cathode voltage, focusing electrode voltage or cathode-anode-distance, acting as an adjusting parameter. L'invention concerne un procédé de régulation de la puissance de rayonnement électronique de sources émettrices d'électrons dans la plage de puissance nominale 0-1200 kW. L'objectif de l'invention est d'obtenir une régulation de puissance continue automatique sur toute la plage de puissance, qui permette une bonne aptitude à la focalisation du faisceau électronique et la minimisation des pertes de rayonnement électronique internes. Cet objectif est atteint, selon l'invention, grâce à la régulation effectuée à l'aide d'au moins deux organes de réglage indépendants qui modifient respectivement, en tant que paramètre de réglage, un des paramètres suivants: température de cathode, tension de cathode, tension d'électrode de focalisation ou distance cathode-anode.
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Ihr liegt die Aufgabe zugrunde, eine automatische kontinuierliche Leistungsregelung über den gesamten Leistungsbereich zu schaffen, die eine gute Fokussierbarkeit des Elektronenstrahles und die Minimierung der internen Elektronenstrahlverluste ermöglicht. Erfindungsgemäss wird die Aufgabe durch die Regelung von mindestens zwei unabhängigen Stellgliedern gelöst, welche jeweils einen der Parameter Katodentemperatur, Katodenspannung, Fokussierelektrodenspannung oder Katoden-Anoden-Abstand als Stellparameter verändern. The invention relates to a method for regulating the electron beam output of electron sources in the rated power range of 0 to 1200 kW. The aim of the invention is to produce automatically continuous power regulation within the entire power range resulting in good focusing properties of the electron beams and minimalising internal electron beam losses. This is achieved by regulating at least two independent actuators which respectively modify one of the following parameters such as cathode temperature, cathode voltage, focusing electrode voltage or cathode-anode-distance, acting as an adjusting parameter. L'invention concerne un procédé de régulation de la puissance de rayonnement électronique de sources émettrices d'électrons dans la plage de puissance nominale 0-1200 kW. L'objectif de l'invention est d'obtenir une régulation de puissance continue automatique sur toute la plage de puissance, qui permette une bonne aptitude à la focalisation du faisceau électronique et la minimisation des pertes de rayonnement électronique internes. 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This is achieved by regulating at least two independent actuators which respectively modify one of the following parameters such as cathode temperature, cathode voltage, focusing electrode voltage or cathode-anode-distance, acting as an adjusting parameter. L'invention concerne un procédé de régulation de la puissance de rayonnement électronique de sources émettrices d'électrons dans la plage de puissance nominale 0-1200 kW. L'objectif de l'invention est d'obtenir une régulation de puissance continue automatique sur toute la plage de puissance, qui permette une bonne aptitude à la focalisation du faisceau électronique et la minimisation des pertes de rayonnement électronique internes. 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This is achieved by regulating at least two independent actuators which respectively modify one of the following parameters such as cathode temperature, cathode voltage, focusing electrode voltage or cathode-anode-distance, acting as an adjusting parameter. L'invention concerne un procédé de régulation de la puissance de rayonnement électronique de sources émettrices d'électrons dans la plage de puissance nominale 0-1200 kW. L'objectif de l'invention est d'obtenir une régulation de puissance continue automatique sur toute la plage de puissance, qui permette une bonne aptitude à la focalisation du faisceau électronique et la minimisation des pertes de rayonnement électronique internes. 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