METHOD OF SPECTRAL NONDESTRUCTIVE EVALUATION

In accordance with the present invention, there is provided a spectral nondestructive method for evaluating sample substrate surface characteristics of a sample substrate. The sample substrate has a sample substrate surface and a generally visually nontransmissive sample coating disposed on the sample substrate surface. The sample coating is transmissive within a first infrared spectral wavelength range and the sample substrate is reflective within the first infrared spectral wavelength range. The method begins with directing infrared radiation from an infrared radiation source towards the coated sample substrate (a). Specular and diffuse infrared radiation reflected from the coated sample substrate is collected (b). The reflected radiation is measured as a function of wavelength in the first infrared spectral wavelength range to obtain measured reflectance data representative of the reflectance of the coated sample substrate (c). The measured reflectance data is compared to reference reflectance data representative of a sample substrate surface having a known physical characteristic within the first wavelength range to obtain differential data (d). The differential data is correlated to physical characteristics of the sample substrate surface (e). La présente invention se rapporte à un procédé d'évaluation spectrale non destructive qui permet d'évaluer les caractéristiques de surface d'un substrat échantillon. Ledit substrat échantillon possède une surface et un revêtement ne transmettant généralement pas la lumière visible qui recouvre la surface dudit substrat échantillon. Le revêtement de l'échantillon est transmissif dans un premier domaine de longueurs d'ondes spectrales infrarouges et le substrat échantillon est réflectif dans ce premier domaine de longueurs d'ondes spectrales infrarouges. Le procédé de l'invention consiste à tout d'abord diriger un rayonnement infrarouge provenant d'une source de rayonnement infrarouge en direction du substrat échantillon recouvert (a). On recueille (b) le rayonnement infrarouge spéculaire et diffus réfléchi par le substrat échantillon recouvert. On mesure le rayonnement réfléchi en fonction de la longueur d'onde dans le premier domaine de longueurs d'ondes spectrales infrarouges de manière à obtenir des données du facteur de réflexion mesuré, représentatives de la réflexion sur le substrat échantillon recouvert (6). Puis on compare ces données du facteur de réflexion mesuré avec des données de réflexion de référen