Semiconductor device
A trench MOSFET including: an epitaxial layer; a body region on the epitaxial layer, the body region and the epitaxial layer forming a first interface; a trench; a trench bottom oxide in the trench; and polysilicon in the trench, the trench bottom oxide and the polysilicon forming a second interface...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!