Semiconductor device

A trench MOSFET including: an epitaxial layer; a body region on the epitaxial layer, the body region and the epitaxial layer forming a first interface; a trench; a trench bottom oxide in the trench; and polysilicon in the trench, the trench bottom oxide and the polysilicon forming a second interface...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Manso Iliyana, Bong Bui Ngo, Jeong Yong Hun, Tay Yen Thing
Format: Patent
Sprache:eng
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