Dummy structures and methods

A semiconductor device and a method of making a semiconductor device are disclosed. The method of manufacturing a semiconductor device comprises forming a material layer on a substrate, patterning a first semi-global region with a first main pattern and patterning a second semi-global region with a...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HUEBINGER FRANK, KAEMMER KERSTIN, ROTHENHAEUSSER STEFFEN
Format: Patent
Sprache:eng
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