Semiconductor wafer with a heteroepitaxial layer and a method for producing the wafer
A multilayer semiconductor wafer has a substrate wafer having a first side and a second side; a fully or partially relaxed heteroepitaxial layer deposited on the first side of the substrate wafer; and a stress compensating layer deposited on the second side of the substrate wafer. The multilayer sem...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng |
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