Semiconductor wafer with a heteroepitaxial layer and a method for producing the wafer

A multilayer semiconductor wafer has a substrate wafer having a first side and a second side; a fully or partially relaxed heteroepitaxial layer deposited on the first side of the substrate wafer; and a stress compensating layer deposited on the second side of the substrate wafer. The multilayer sem...

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Hauptverfasser: STORCK PETER, VORDERWESTNER MARTIN
Format: Patent
Sprache:eng
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