Air-curtain forming apparatus for wafer hermetic container in semiconductor-fabrication equipment of minienvironment system

In a semiconductor-fabrication equipment of a minienvironment system, ambient air is prevented from entering a gap between an opening of the semiconductor-fabrication equipment and a wafer gateway of a hermetic container to prevent dust entrained in the ambient air from adhering to wafers in the her...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KOUCHIYAMA SHIGERU, OKADA MAKOTO, KISAKIBARU TOSHIROU, UENO KOUTA
Format: Patent
Sprache:eng
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