High voltage field effect device and method
Methods and apparatus are provided for a MOSFET ( 50, 99, 199 ) exhibiting increased source-drain breakdown voltage (BVdss). Source (S) ( 70 ) and drain (D) ( 76 ) are spaced apart by a channel ( 90 ) underlying a gate ( 84 ) and one or more carrier drift spaces ( 92, 92 ') serially located bet...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng |
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