Maskless middle-of-line liner deposition

A process for fabricating a semiconductor structure, wherein the semiconductor structure includes a core region and a periphery region. The core region includes a plurality of transistors and the periphery region includes a plurality of transistors. The process includes depositing a middle-of-line l...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BAKER STEVEN M, MALDEI MICHAEL, BERRY, II JON S, COUSINEAU BRIAN, LEE JINHWAN, GERSTMEIER GUENTER, HEDGE MALATI
Format: Patent
Sprache:eng
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