Erosion resistant electrostatic chuck with improved cooling system

An electrostatic chuck (20) for holding a substrate (40) in a process chamber (50) comprises a base (25) supporting a resilient insulator (30). The insulator (30) comprises (i) an electrode (35) embedded therein; (ii) a top surface (34) with a peripheral edge (32); and (iii) cooling grooves (45) for...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SALFELDER, JOSEPH F, CAMERON, JOHN F, DESHPANDEY, CHANDRA
Format: Patent
Sprache:eng
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